二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9151698 待售
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ID: 9151698
晶圆大小: 8"
Coater / developer system, 8"
Carrier station type: Open cassette
Wafer loading type: Left to right
Coater unit:
2-1 Unit:
Coater type: Coater
Pump model: RRC
(3) Nozzle count
Suck back valve
Spin motor: Yasgawa
2-2 Unit:
Coater type: Coater
Pump model: RRC
(3) Nozzle count
Suck back valve
Spin motor: Yasgawa
Develop unit:
2-3 Unit:
(2) Dev nozzle count
Up/Down move: Cylinder
Spin motor: Parasonic
2-4 Unit:
(2) Dev nozzle count
Up/Down move: Cylinder
Spin motor: Parasonic
(10) Low temp hot plates (LHP)
(5) Chill plate (CPL)
Chilling hot plate (CHP)
Cup wash holder (CWH)
(1) Transition (TRS)
(1) Transition chill plate (TCP)
Sub module:
THC Maker & model: KOMATS SPA-1821
TCU Maker & model: SMC TEL Standard
AC Power box capacity: AC 208 3θ 125A
Missing parts:
Main controller
2-3,2-4 Dev solution nozzle assy
2-3,2-4 Dev drain pipe assy
2-1,2-2 Resist suck back valve
2-3 Dev spin driver
Dev & cot cup assy
Chemical cabinet parts
IFB Block
2-15 CPL
2-16 TRS.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是专门为生产轻量化集成电路（IC）基板而设计的光阻设备。该系统利用光刻层来创建后续光刻步骤所需的蒙版。该层允许根据特定波长量身定制光敏度，这意味着可以更精确地产生IC。TEL ACT 8的主要部件是曝光模块，其中包含光掩模、旋转卡盘和舞台以及紫外线激光器。紫外线激光器被用来在光致抗蚀剂层上产生不同强度的图样。这种模式是由旋转的卡盘和舞台创建的，用来在紫外线激光下移动光掩模。然后将图样暴露在集成电路基板上，然后由机器的其他组件进一步加工。为了保证IC生产的精确度和准确性，TOKYO ELECTRON ACT 8还有一个高度敏感的Imaging单元。这台机器在曝光后对光刻胶层进行详细扫描，以确保检测到图样中的任何变化，并能够被注意。此外，该工具还包含一个高级计量控制单元，该单元能够测量到0.1微米，以确保准确性。该资产还能够接触曝光，其中光刻胶层充当负掩模，以便将图像直接传递到集成电路基板上。当需要高度精确的掩码或需要以高产量生成小特征时使用此方法。TOKYO ELECTRON ACT 8是一种高度先进的光刻胶模型，旨在制造后续光刻步骤所需的蒙版。该设备包含一个曝光模块、成像系统和计量控制单元，所有这些单元共同努力确保生产轻型集成电路所需的精度和准确性。该装置能够接触曝光，并能够产生尺寸高达0.1微米的图像。
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