二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9216895 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种光刻设备，用于光刻IC和其他微电子制造过程，特别是半导体制造线。该系统能够精确、详细地控制光刻胶的曝光，这种光刻胶的作用就像一种光敏涂层，可以有选择地曝光，并用于在纳米级上对IC和其他微电子器件进行阵列设计。TEL ACT 8使用了一个两步控制单元，通过该单元，第一步涉及在最后暴露发生之前进行预暴露。曝光前设置是一个重要的特点，因为它允许精确控制曝光能量，这是决定光刻胶上形成的图样最终特征的关键参数之一。通过精确控制预曝光的能量，可以在光刻胶中图样化的特征中实现更精细的定义。此外，预暴露设置还允许可治愈的洪水，以消除污染物，并允许更精确的模式。机器还包括曝光后烘烤（PEB）功能，通过硬化光刻胶并适当固化，进一步优化曝光过程。在这一步骤中，光刻胶在有助于固化结构的温度下加热，从而允许更精确和精确的微电子模式。TOKYO ELECTRON ACT 8还设有高级控制工具和软件，用于监督曝光过程。它利用高级算法和反馈回路来确定每次曝光的最佳参数，并允许用户微调设置，以确保光刻胶以正确的能量正确曝光。此外,该工具还提供多种诊断和警报功能,以指示暴露过程中可能出现的任何潜在问题。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种先进的光电抗蚀剂资产，它对光刻IC和其他微电子器件的光刻过程中使用的光电抗蚀剂的暴露提供高精度和详细的控制。它的两步模型和先进的算法和反馈回路确保曝光过程准确，达到最高标准，以便在纳米级产生所需的模式。