二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9220020 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于微电子製造的光敏设备。它是一个全自动系统，由于其获得专利的光学自动化Lithography™（OAL™）技术，为精密光刻提供了最高水平的准确性和可重复性。TEL ACT 8单元的设计目的是在不到90分钟的时间内自动准确地校准焦点、晶片对准、模式对准、迭加和旋转多达8个晶片,以满足现代、大批量生产的需求。它能够处理高达8英寸的晶片，分辨率为0.1微米。该机配备了一套高度集成、精密的制造功能。超高速双激光扫描曝光（LDSE）模块以高精度和稳定性执行照片曝光。具有两轴旋转和图像识别技术的五轴对准工具提供了晶圆关键特征的精确对准。该资产还配备了防止透镜表面与晶片接触的专利透镜保护模型，以确保透镜使用寿命更长。具有扫描机构的晶圆传输模块还可以方便地传输暴露的晶圆。此外，还采用了紧凑高效的无尘集装箱设备，以确保清洁的工作环境。TOKYO ELECTRON ACT 8系统还能支持不同类型的光刻胶，包括用于超高分辨率和高产率应用的ArF光刻胶、用于较低分辨率的I-line和KrF光刻胶等应用。它还允许广泛的蚀刻化学，以满足各种微电子制造需要。ACT8光敏装置是生产高分辨率、高产率微电子元件的先进可靠机器。它具有几个先进的特点，如工艺参数的自动校准和高度集成的制造功能。它经过验证的准确性和可重复性使其与其他光刻系统脱颖而出,使其成为生产大量关键组件的理想解决方桉。