二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9236700 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于制造半导体器件的光阻设备。光致抗蚀剂系统使用紫外线或X射线在半导体基板上产生图像。TEL ACT 8系统采用高能紫外线光源，设计用于使用DUV抵抗材料的光刻。它具有64位体系结构和9英寸彩色液晶触摸屏以及内置的Web浏览器。该单元的焦距为25和105毫米，工作距离为200毫米。TOKYO ELECTRON ACT 8机被设计为提供集成电路（IC）和其他电子元件的高分辨率成像。它产生高对比度和极佳线性的高精度图像。该工具还能够在一定角度上提供出色的线性度，使成像资产能够精确地对准光学。该模型还能够产生高达20纳米标记的分辨率。ACT 8设备附带各种成像模式，以满足不同的处理要求。这些模式包括蒙版曝光、直接打印、扫描打印和线路曝光。蒙版曝光模式产生高密度图像，适用于产生高精度的成像元件。直接打印模式用于生成精确的IC图像,而无需光刻口罩。扫描和打印模式允许在一个连续的通道中扫描和打印IC。行曝光模式用于生成各种矢量元素,如行、尺寸和文本。ACT 8系统是电子和光刻生产的高效、可靠和具有成本效益的替代方法。它提供高精度的成像、出色的线性和稳定性以及高吞吐量。该单元的紧凑设计和可移植性允许在多个应用程序和过程中使用,使其成为原型和小批量生产运行的理想选择。