二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9238389 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TOKYO ELECTRON Ltd的TEL Corporation设计收购的光致抗蚀剂设备。它是一种基于光学的自动化光刻系统，用于生产半导体器件。这一装置的设计是为了能够精确和高分辨率地制造用于制造现代半导体的光刻口罩。TEL ACT 8由几个组件组成，包括一个照明源、透镜机、标线对准工具和一个暴露的光刻胶资产。该模型使用的光源是一种激光，在各种波长下工作，通常在350-400 nm的范围内。激光通过透镜设备定向，高度精确，可提供高达200 mW/cm2的光功率。标线对准系统用于将光刻过程中使用的标线图样与晶圆精确对准。曝光的光致抗蚀剂单元包括动态扫描仪，用于将光致抗蚀剂施加到晶片表面上。这是用稳定的光流传递到晶圆表面来完成的。可以根据所需的分辨率精确调整传递到晶圆的总功率。然后将光致抗蚀剂暴露于激光，并诱导化学反应，导致光致抗蚀剂在暴露于光的区域被硬化或软化。然后,此蚀刻图样用于在后续过程中对晶片进行图样化。TOKYO ELECTRON ACT 8被设计为与被称为阿拉斯加系列的精密对准机配合使用。这种组合提供高达0.03微米的精度，并且能够产生小至0.07微米的特性。该工具还具有内部模拟器程序，可用于在实际制造过程之前测试晶圆设计。总之，TEL ACT 8是用于制造现代半导体生产设备的自动化、高度精确的光刻资产。它利用激光模型为分辨率和功率提供了一系列设置。此外,其阿拉斯加系列对准设备和内部模拟器程序为用户提供了以极高的精度和精确度创建复杂设计的灵活性。