二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9241917 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8 （TEL/TE TEL ACT 8）是一种先进的光致抗蚀剂设备，用于制造要求很高的集成电路，特别是在半导体和纳米技术行业。该系统的光刻技术允许集成电路制造商创建线宽和CD公差非常低的图样和特征。TOKYO ELECTRON ACT 8的主要特点是它的高分辨率能力，这取决于它先进的光阻和遮罩对准器。它的光致抗蚀剂单元的工作原理是用光致抗蚀剂反复涂覆晶片，并烧掉不对称定义的区域。这样就可以精确地创建沟槽、小氛围、口袋和小角度。ACT8的另一个核心成分是它的掩码对齐器。这种设备可以快速准确地对准光刻胶和晶片，允许光掩模图桉精确转移到光刻胶上。它还可以快速改变遮罩图桉和光刻涂层。ACT 8的机器还融合了先进的成像和计量能力，提供了一种检查光刻胶特性特征的手段。这包括光学测量、自动采样和X射线检查，允许精确观察晶圆的最小特征。此外,刀具使用零长度的过潮来减少驻波失真.这种能力通过降低驻波噪声来提高资产的分辨率，从而导致精细结构之间的对比度更高。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8提供了其他几个特性，如高效液体界面涂层模型、深反应性离子蚀刻（DRIE）和氧化物蚀刻。此外，它的精密过程监控（PPM）设备提供了有关过程状态的实时数据，允许精确的过程控制和可重复性。最后，TOKYO ELECTRON/TE TOKYO ELECTRON ACT 8被设计为提供接近线圈表面处理晶片的最佳环境。这样可以确保高质量的流程结果和可重复性。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON/TE TEL ACT 8是一种先进的、高分辨率的光刻胶系统，旨在制造极高要求的集成电路。其先进的成像和计量能力，高效的液体界面涂层单元，PPM机，允许精确和可重复的结果。