二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9252167 待售
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ID: 9252167
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
I-Line
Single block system
Wafer flow: Left to right
Process block: Single block system
Block 1(C/S Blk):
CS Add on board missing
Main controller: ACT #2
Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive
Touch screen
Pincette
Block 2(P/S Blk)
(2) Spinner I/O boards missing
(2) Coater units (2-1, 2-2)
Direct drain type
(2) PR Nozzle assemblies
(4) Back rinses
(2) EBR Nozzles
(2) Out cup assemblies
(2) Nozzle changer motors
(2) Spin motors & drivers
(2) Developer units: (2-3, 2-4)
(4) Back rinses
(2) H Nozzle assemblies
(2) Out cup assemblies
(2) Spin motors & drivers
Oven unit:
(7) LHP/ Low temperature hot plates
(4) CPL/ Chill plates
TCP
(2) TRS / Transfer stations
(2) ADH/ Adhesion process stations
PRA / Process block robotics arm:
Missing part: Pincette
TH Drive
PRA Motor
Missing parts:
(4) ADH Inject valves
(10) Air valve (AMDZ1-X61)
(2) Spinner I/O boards missing (Coater units (2-1, 2-2) Developer units: (2-3, 2-4))
(2) DEV Drine bottles
Power cable
THC: T&H-NRE-2-A-00
Power box: PB2-U200-03-DV2
TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种产生用于生产半导体器件的光掩模的光刻设备。该系统具有创建具有高分辨率和重复性的高精度模式的能力。它产生的光掩模图样是通过专有的双图样曝光（DPE）方法创建的。这种方法涉及用扫描镜投影将单个光刻胶胶片暴露于两个不同光源的连续曝光中。此单元还利用具有不同级别的图像复杂度和光掩码几何的用户定义掩码配置,使用户能够自定义光掩码图样。TEL ACT 8生产的光掩模是通过多种工艺制成的。首先，玻璃基板涂有非晶硅树脂，作为光掩模图桉。接下来，胶片被照射在光线下，从而设置了光致抗蚀剂规则层。光线使暴露的树脂聚合，不溶于某种化学溶液。这导致创建蚀刻线阵列。最后，这种图桉被转移到玻璃基板上。这台光掩模机的分辨率相当令人印象深刻，最小线/空间为0.08微米，在800万像素的阵列上一致的音高高达0.2微米，使得TOKYO ELECTRON ACT 8成为最严格的半导体器件制造应用的理想选择。其可重复性小于0.001微米，保证了优良的产品质量和产量。另外，TOKYO ELECTRON ACT 8的设计使曝光时间快速，一般从数小时到一天不等。TEL ACT 8工具还具有一套复杂的错误检查和自动纠正软件工具。这些工具允许在审查蚀刻薄膜之前手动校正超出公差的条件,从而确保精确生成复杂的图样。因此，TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种可靠的光致抗蚀剂资产，可以产生高度先进的光掩模图样，具有非凡的重复性和精确度。
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