二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9272113 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于制造集成电路和其他半导体器件过程中的光阻设备。它是一种以光刻形式使用的先进系统，涉及将预先图桉化的抗蚀剂或感光材料暴露在紫外线下，然后发展成所需的图桉。TEL ACT 8单元能够以卓越的精度和优异的表面一致性在基板上产生图样。TOKYO ELECTRON ACT 8机的核心是其先进的光掩模对齐器，它将光掩模与基板精确对齐。光掩模包含一个与基板上所需图样相对应的曝光位点图样。曝光点可以是任何大小和形状,如正方形、圆形或六边形。光掩模对准器采用高精度传感器，确保完美对准。这样可以确保曝光点的准确性，从而使基板上产生的图桉精确。ACT 8的光阻特性是工具的关键组成部分，因为它有助于在基板上创建图样。光敏材料由两层组成，底层由感光材料制成，顶层由保护膜组成，有助于保护感光材料免受曝光光的照射。如果控制得当，顶层只允许足够的曝光，使感光材料反应并在基板上形成图样。资产还包括开发者特征，这有助于在基板上创建模式。曝光光施加到基板上后，开发者接手并帮助形成所需的图样。开发人员是一种先进的化学模型，包括各种蚀刻剂和溶剂。这些有助于将感光材料溶解在局部区域，在基板上形成图桉。TOKYO ELECTRON ACT 8设备还包括微调照明系统，旨在确保基板的均匀曝光。这有助于确保在基板的所有部件上创建所需的阵列,而不会出现不一致之处。照明系统也可用于改变曝光水平以适应基板表面，确保精确和精确的图桉。总体而言，ACT 8是一种先进的光阻系统，能够创建精确的图样，具有卓越的精度和出色的表面一致性。其先进的光掩模对准和照明系统有助于确保基板的均匀曝光，而其开发者则有助于创建所需的图样。这些特性有助于使其成为创建复杂集成电路和其他半导体器件的理想单元。