二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9282700 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是为了严格控制半导体材料的开发过程而设计的耐光设备。它是一种能够制造高密度、高精度、高屈服的集成电路和其他复杂材料的光刻系统。TEL ACT 8光抗蚀剂单元的曝光阶段配备了一个冷阴极灯（CCL），能够一次容纳一个晶片。该灯发出的能量在晶圆传感机中进行测量，以确保晶圆的精确曝光。CCL和Wafer Sensing Tool的组合保证了图样的所有特征在基板上的精确对齐，从而保证了精确曝光。光对准资产还配备了自动对焦模型，允许与晶圆投影中使用的标线快速准确对准。TOKYO ELECTRON ACT 8也在开发过程中对晶片提供精确的温度控制。这样可以确保批次和晶片结果的一致性,从而确保更高的产量。利用多个温度控制区将开发人员关押在一个严格控制的环境中，从而进一步确保化学品的保质期和较高质量的发达抗蚀剂。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8设有凹版开发站D-Station，与上述开发者协同工作，对已开发的半导体晶圆进行精确着色。D-Station包含几个元素，如载波、显影剂和圆柱体。这使得模式能够精确发展成目前沉积在半导体上的抗蚀剂。最后，ACT 8还配备了喷雾胶囊，用于开发过程的曝光后烘烤阶段。这使得通过控制曝光后烘烤过程更容易延长工艺窗口。总体而言，ACT 8是一种先进的光阻设备，设计用于精确曝光和发展集成电路和其他复杂材料的制造。其高精度的曝光系统、温控显影剂罐、凹版开发站、喷雾胶囊都协同工作，确保了开发过程中的高产率和高精度。