二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9283381 待售
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ID: 9283381
晶圆大小: 8"
优质的: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 8"
Machine type: L-Type
Single block
Main controller: M/C Normal installation
Coat Process Station (COT):
(2) Nozzles
RRC Pump
Solvent automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard
Side rinse (EBR)
(2) Back Side Rinses (BSR)
Develop process station (DEV):
Nozzle
H Type
Dev Solution automatic supply: (2) Tank auto supplies / TEL Standard
Rinse nozzle
(2) Back Side Rinses
Adhesion process station
(6) Low temperature hot plate stations (LHP)
(2) High temperature hot plate process stations (HHP)
(4) Chilling plate process stations (CPL)
(2) Transition stage units (TRS)
AC Power box
Chemical box
Temperature controller
KOMATSU (SPA-1882-A) T&H
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种光致抗蚀剂设备，用于制造高性能半导体。该系统采用数据驱动的光刻工艺，是直接书写光刻的一种形式。在光刻中，光被用来将有图样的细胞转移到基板上，通常是硅片。这种光通常是紫外线,或紫外线.这种光刻方法允许图样被精确复制和缩放以适合基板。这成为创建半导体器件的晶体管、电容器和其他组件的起点。随着TEL ACT 8，先进的光刻机采用功能强大的3步工艺。首先，机器使用二进制光学遮罩在空白硅基板上施加特定的图样。接下来，这种图桉暴露在紫外线下，让面罩随后被移除。成品是蒙版上图桉的精确复制。该设备还配备了先进的晶片级和晶片扫描机。这两个元件协同工作，确保整个光刻过程的精度。晶圆扫描工具能够移动各级以进行定位和对准，以促进尽可能最精确的阵列。该扫描资产还有助于减少每个晶片的处理时间。过程的第三步是将晶片涂在光敏材料中。这种材料对紫外线敏感，所以当它暴露时，只有晶圆的某些区域会保持暴露。此过程可用于创建比以前的二进制光学掩码更详细的阵列,例如细线和小特征。TOKYO ELECTRON ACT 8为用户提供了一种快速、准确、精确地创建复杂半导体设计的手段。此模型非常适合各种行业和应用,包括汽车、电信和消费电子产品。其精确度和效率允许生产高度可靠和复杂的半导体零件。
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