二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9285381 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于半导体器件制造的光敏设备。该系统设计用于基板膜的沉积和干蚀刻，用于集成电路的制造。TEL ACT 8单元利用先进的无掩模光刻机，采用孔径激光掩模，使图样能够高分辨率成像到光敏基板上。光圈激光掩模位于基板上方固定距离处，用于扫描和曝光功能。该工具与抗蚀剂喷嘴集成在一起，该喷嘴提供所需的基板溅射涂层，并允许均匀应用抗蚀剂材料。该资产具有很高的成像分辨率。该模型采用高频调制激光发动机，在基板上产生高分辨率、高精度、高均匀度的图像。此功能可确保增强阵列的保真度,从而显着提高工艺产量。此外，TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蚀剂设备具有光学活动性层技术，允许薄膜和绝缘体层之间的互连，用于制造多级互连。这一层技术还提供了更好的接触屈服和附着力。该系统还具有集成自动化，有助于减少制造集成电路所需的时间和资源。此自动化旨在降低最终产品的成本。TOKYO ELECTRON ACT 8光抗蚀剂单元适用于高温烘烤和蚀刻应用，以及其他困难的工艺条件。它还能够容纳最新的晶圆技术，如Cu-AlN薄膜，并能够制造复杂的设备。总体而言，ACT8光刻机是一种先进的高性能工具，非常适合半导体器件的制造和生产。该资产具有内置自动化和改进的成像分辨率,有助于降低集成电路的生产成本。它还能够处理困难的工艺条件，能够适应最新的晶圆技术，使得TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8光刻胶模型成为制造复杂器件的理想解决方桉。