二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9288585 待售
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ID: 9288585
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
(3) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block
(4) Open cassettes: CSB
Transfer arm
Controller
Touch panel
(2) Block bodies (SPIN: 3COT / 4 DEV)
RRC Pump: CSB
(3) COT Spin with 3 nozzles (2-1, 2-2: COT / 2-3 TCT)
Nozzle for DEV spin
Interface block:
WEE Unit
IFB Arm
Lamp house
Bake (1B, 2B):
(2) ADH
(8) CPL
(4) PCH
(13) LHP
(3) TRS
(4) HHP
Sub modules:
AC Power
(2) TCUs (SMC)
(2) Chemical cabinets
Cup temp / Humid (COSAM)
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是为精密光刻而设计的光刻设备。它是一个可自定义的系统,使用户能够对其生产过程进行最佳的可见性和控制。该装置具有自己专有的光刻胶溶液，这是光刻工艺的重要组成部分。此解决方桉可帮助用户在目标材料上均匀地应用光刻胶,以创建统一且准确的结果。机器的核心是一个专有的激光扫描仪，它提供了最大的精度和速度。它有一个可调的阶段，与任何基材尺寸完美对齐的能力。激光束聚焦在极窄的宽度上，这样可以将细小的图样精确地写入目标材料上。该工具还具有获得专利的自动尺寸调整功能,可确保曝光与目标形状精确匹配。该资产通过内置的多重曝光模型得到进一步增强。这允许用户在不同的曝光设置下多次曝光相同的模式。此设备不需要手动调整模式,确保每次结果一致。该系统还包括一个专利介电材料锁存器，旨在将光刻胶固定在基板上。此特性可确保光刻胶在曝光过程中牢固地附着在基板上。此外，该装置还具有可编程数字倾斜机，可确保光刻胶均匀分布在基板上。该工具还配备了一整套温度和湿度传感器。这使用户能够轻松地监控和调整温度和湿度,以获得精确的条件,从而获得所需的分辨率和模式的清晰度。最后，资产还包括其自身的自成一体的抗拒发展模式。这种设备在曝光后从基板上除去光致抗蚀剂，导致图样的形成。该系统配有传感器，确保对基板施加精确的压力，以达到最优的抗蚀剂去除效果。总体而言，TEL ACT 8是一种先进的光刻装置，设计用于精密光刻。它结合了专有的光致抗蚀剂溶液、激光扫描仪、多曝光机和抗蚀剂开发工具,使其能够在尽可能短的时间内提供最高质量的结果。
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