二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9289040 待售
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ID: 9289040
(4) Coater / (2) Developer system
Dual block
Right to left wafer flow
Block 1:
Type 3 controller
(16) RDS Resist pumps
Block 2:
2-1, 2-2 Standard COT:
(4) Resist nozzles
With (4) RDS resist pumps
2-3, 2-4 TCT Unit (Top ARC):
(4) Resist nozzles
With (4) RDS resist pumps
(2) Adhesion Process Stations (ADH )
(4) Chiller Plate Places (CPL)
(7) Low Temperature Hot Plate stations (LHP)
(4) High Temperature Hot Plate Process Stations (HHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
Transition Stage (TRS)
Transition Chill Plate (TCP)
Block 3:
Unit / Nozzle qty / Nozzle type
3-1 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-2 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-3 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
3-4 DEV Unit / (1) / SH Nozzle
(6) High Precision Hot Plates (PHP)
(8) Low Temperature Hot Plate stations (LHP)
(4) Chiller Plate Places (CPL)
Block 4:
ASML PAS 5500 DUV Stepper / Scanner
Wafer Edge Exposure (WEE)
(2) External chemical supply cabinets
(2) Thermo controller units
AC Power unit.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一款光阻设备，旨在为光电子、数据存储、通信等应用中的高分辨率特性提供精确、精确的处理。它将光刻技术与有源激光控制系统相结合，提供卓越的性能和吞吐量。该单元旨在实现高精度和低成本的光学过程,如精确的步进重复、对准、图像缩放和其他应用。该机器包括一个材料处理子系统、一个控制器、光学器件和一个激光源。物料处理子系统将样品从输入移动到输出托盘，控制器用于调节激光源并操纵光学器件。光学子系统包括一个场透镜、一个偏转镜、一个聚焦透镜、一阶衍射光栅和可用于调节曝光剂量的中性密度滤光片。激光源通常包括一个氟化的准分子激光器、一个紫外二极管激光器或一个蓝色二极管激光器。TEL ACT 8的吞吐量高达每小时3000个晶圆，最小场大小为5微米。它具有高速对准精度,可重复性为± 5微米,图像缩放能力为10到500 ×。它的溷合对齐工具还允许用户同时执行手动和自动对齐。该资产旨在处理广泛的基板，包括厚薄膜基板，以及玻璃和石英。该型号还设计方便直观的操作。它支持一个图形用户界面（GUI）,用于使用逐步指令进行过程控制。GUI还提供有关对齐增益、流程状态和设备设置的信息。该系统还包括一个传感器反馈单元，用于监控样品定位，以确保最佳性能。该机设计坚固可靠，具有自我诊断、自我校正等自动功能。它还包括错误记录和报告等功能。该工具经过工厂校准，漂移低，可重复性好。它能够在各种温度和湿度水平下运行。紧凑的设计不需要额外的气流和空间，可以与各种材料处理系统集成。
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