二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9290881 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是为了生产高精密的微电子元件而设计的光刻胶设备。该系统是一种沉积工具，旨在方便在半导体器件上创建光刻胶薄膜，从而能够以前所未有的精确度和细节开发电路和其他组件。这是通过使用称为"光刻"的工艺来实现的，在该工艺中，由光和阴影组成的掩模被投射到光刻涂层的基板上。暴露在面膜下会使光致抗蚀剂的暴露区域变得"发达"，从而产生所需的微电子结构。TEL ACT 8单元利用了一台以光学为基础的渐逝式ArF KrF光刻投影机，允许以极高的精度成像高分辨率图桉。它具有60 nm的分辨率,指示可精确生成的特征的最小大小。该刀具还具有出色的离轴倾斜度,允许制造各种几何形状。该资产可支持直径不超过150 mm和厚度不超过6mm的基板,从而提供了处理各种基板尺寸和类型的灵活性。该模型还具有先进的工艺控制能力，便于处理光刻胶轮廓，以达到最佳的胶片质量。该设备提供有关掩模和基板特性的实时反馈,并能够快速调整光束的强度和波长,以减少工艺变化并优化吞吐量。此外，该系统还能够自动优化工艺，从而扩展了其应用领域，提高了工艺产量。ADV还提供可选的快速冷却系统,并支持高级流程控制。它是完全可伸缩的，允许整合几个投影模块，并允许同时生产多个设备。最后，该单元还设计得极其坚固耐用，长期提供可靠的性能，这对许多类型的工业生产至关重要。总之，TOKYO ELECTRON ACT 8是一种尖端的光致抗蚀机，专为精密精密的微电子元件生产而设计。它采用ArF KrF平版印刷工具,可实现最先进的分辨率,先进的工艺控制,能够加工各种基板,并具有高度可靠的设计,以实现最大的耐用性和性能。凭借其广阔的能力，资产是各种工业应用的理想选择。