二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9300128 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TEL Limited（TOKYO ELECTRON）开发的下一代光致抗蚀剂设备。光致抗蚀剂是一种用于生产电子元件和光敏聚合物的化学品，可用于在基板上制造图样。光致抗蚀剂系统被用于从光刻到蚀刻的各种制造过程中。TEL ACT 8具有多种特性，使其与其他光刻胶系统脱颖而出。它是一个高性能的抵抗系统，能够使用来自荧光数字成像显微镜（FDIM）的图像和视频数据和8英寸晶圆。这意味着它可以精确地形成具有高重复性和均匀性的模式。它有一个最先进的清洁装置，可以有效地去除金属离子和有机污染物。这样可以减少冲洗不良造成的清洁缺陷和碎屑。增强的掩模沉积特性使得控制线宽和薄膜厚度更加容易。这有助于确保从光掩模到基板的图样传输过程准确。该机与其他光刻胶相比也有改进的处理特性，允许更快的处理速度。此外，延长了最大工艺时间，降低了颗粒污染和基材损坏的风险。TOKYO ELECTRON ACT 8的先进控制能力有助于确保更精确的模式错位和线宽。它还能够按顺序纳入干蚀刻和化学过程，简化生产过程，使其更易于监测和优化。总体而言,TEL ACT 8是一种先进的光阻工具,可提供更快的处理速度、改进的清洁能力、增强的掩模沉积特性和延长的工艺时间等优点。这有助于提高减少缺陷和改善基材加工的准确性、均匀性和可重复性。它是一项先进的资产，为电子元器件的生产制造提供了巨大的优势。