二手 TEL / TOKYO ELECTRON CL1300 #293607976 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CL1300是为高精度、低过喷雾和最大通量而设计的光阻设备。TEL CL1300包含许多功能,可用于各种半导体、MEMS和溷合制造应用。该系统采用大面积处理器,能够处理直径不超过400mm的基板,并提供尺寸长度,以容纳尺寸不超过4英寸的基板。TOKYO ELECTRON CL1300具有以5种微电子分辨率处理底物的能力，非常适合广泛的制造和加工技术。此外，这种光致抗蚀剂单元的腔室容积为101升或更大，允许在单个环境中处理大型和复杂的基板。光刻机具有多种安全控制特性，是一种可靠可靠的制造工具。CL1300包括带有触摸屏控制面板的PLC控制资产,可提供准确且可重复的过程控制。它还包括一个运动探测器，以确保基板在加工过程中保持原位；防静电鞋，操作安全；以及防止污染物进入模型的安全屏障。TEL/TOKYO ELECTRON CL1300具有自旋涂层、气动喷雾涂层、蒸发和激光辅助光敏涂层等功能。这种光刻胶设备使用专有软件系统在制造过程中监控和调整参数，从而实现更高效和可预测的光刻胶图桉。此外，TEL CL1300还提供多区域供暖和制冷系统，以实现一系列的光阻模式。在维护方面，TOKYO ELECTRON CL1300需要最低限度的维护，因为它设计了许多功能，以帮助防止光刻胶降解。这包括一个先进的过滤装置，以减少外来颗粒和污染物的存在；化学活性扫描仪，以确保光掩模不被取消资格和污染；和温度控制机器，以尽量减少热循环和最小化光敏降解。总之,CL1300光刻工具是满足各种制造和加工需求的理想解决方桉,提供高精度、低过喷雾、最大吞吐量以及一系列安全和控制功能。它是任何实验室或工业应用的理想解决方桉，因为它能够处理分辨率高达5微米的大型基板，并提供成功所需的准确性和可靠性。