二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #293592464 待售

TEL （TE） TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 12是一种'光刻胶'设备，用于微电子工业的设备制造。光致抗蚀剂是对特定光能敏感的化学制剂。当暴露在光线下，光致抗蚀剂内的分子发生反应，导致其分子状态发生变化。通常情况下，光刻胶沉积在晶片上以创建特定的图样，这些图样可用于构建大规模的集成电路。TEL Clean Track ACT 12系统提供了比传统光刻胶系统更多的优势,包括更高的清洁能力、更高的生产率和更清洁的结果。它在过程结束时清除暴露后沉积物的能力特别有益。它还具有快速和成本效益，能够在不到传统系统所需时间的十分之一的时间内取得优异成果。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12装有一个Spin/Spray Unit，用于在真空下将光刻胶套用到半导体晶圆上。光刻胶放置在旋转/喷雾杯中，这是一个装有光刻胶的空心塑料杯。然后将杯子放在旋转的主轴上，以适当的速度纺丝，以均匀分布晶片上的光刻胶。该过程还确保光刻胶均匀分布在晶片的整个表面上，以获得一致的图样化结果。光致抗蚀剂一旦施加到晶片上，就会在Clean Track ACT 12中以所需的时间长度暴露在光源下。机器有一个高强度的水银蒸气灯，将光线准直，以获得最佳的曝光均匀性。然后在显影剂溶液的工具搅拌浴中开发光致抗蚀剂。这会移除未曝光的光刻胶部分，留下晶圆上的图桉。最后，资产配备了先进的清洁模块，由一系列喷头组成，这些喷头分散了几种不同的溶剂，以准确地清洁晶圆中的残留物。这种自动化清洁技术提供了卓越的清洁效果，并显着减少了晶圆上实现清洁胶带亮度所需的时间和人力。综上所述，TE TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 12光刻胶模型是设备制造的理想解决方桉。它提供了卓越的清洁性能、更高的生产率,以及为设备制造的下一步准备就绪的清洁晶片。其快速、经济高效的操作，加上自动化的特点，使其成为半导体制造商的一个有吸引力的选择。