二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9138480 待售

TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款先进的光致抗蚀剂设备，设计用于半导体工业中非常高的清洁和蚀刻应用。该系统旨在提供对光刻蚀刻工艺的精确控制，使其能够在尽量减少浪费的同时达到预期的效果。TEL Clean Track ACT 12采用了光刻胶喷涂、蚀刻和烘烤特性的组合，在尺寸和厚度各异的材料上产生超细、高精度的蚀刻图桉。光致抗蚀剂是一种光敏聚合物，用于光刻工艺，在硅片上产生微小的特征。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12利用先进的超快UHF固态激光器在晶圆上喷洒光抗蚀剂。此功能可确保阵列不会因其他系统中常见的过热条件而变形。Clean Track ACT 12还包括一个由精确激光和电控制管理的高速蚀刻单元。这台机器能够精确蚀刻复杂的图样，重复精度高达0.5 μ m。蚀刻用于在晶片表面上创建所需的图桉，然后用对紫外线敏感的光刻胶涂覆。紫外线用于选择性蚀刻光刻剂上所需的图桉。最后，经过蚀刻后，晶片进行烘烤循环。这样做是为了进一步加强图样的准确性，并去除基板表面上任何残留的光刻胶。TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12旨在监测烘烤过程的热特性，使结果准确且可重复。总之，TEL Clean Track ACT 12是一种先进的光致抗蚀剂工具，专门为半导体行业内的高性能、非常高精度的蚀刻和清洁应用而设计。它结合了光阻喷涂、蚀刻和烘烤特性，在不同尺寸和厚度的基板上产生超细特征。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12的重复精度高达0.5 μ m,能够产生极高质量的结果,且浪费极少。