二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9199427 待售
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ID: 9199427
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (4) Developer systems, 8"
DUV Dual process block track
General:
iUSC SECSI
SECSII
HSMS
GEM
(4) Blocks interfaced:
(2) Cassettes
Process block
Scanner interface
(4) Wafer transfer robot arms:
(2) Cassettes
Process block
Scanner interface
Control module on cassette end station (CES)
Interface block:
Single pincette
Wafer transfer with centering guides
Standard wafer arm
Interface panel to accommodate stepper/scanner
CPL For insuring consistent wafer temps
(2) Coaters:
(4) Resist nozzles with temperature control
(16) Layer resists and solvent filters
RRC Pumps
4L / 1L Nowpak capability
SS 0.3 mm Diameter side rinse nozzle with flow meter
(2) SS 0.3 mm Diameter back rinse nozzles
(4) Developers:
(2) H Nozzles with temperature control
(16) Layer filters
Bulk FSI
(2) Adhesion process stations (ADH)
Half sealed chamber
With dispersion plate for HMDS
(6) Chill plates process stations (CPL)
Temperature control
Transfer chill plate (TCP)
(8) Low temperature hot plates process stations (LHP)
(4) Chilling hot plate process stations (CHP)
Wafer edge exposure process station (WEE)
DUV Illumination monitor
Lamp housing
Ultra pressure mercury lamp 250 W
With 5 x 4 mm illumination pattern
Sub components:
Fluid temperature controller
(2) Temperature humidity controllers
Chemical cabinet
AC Power box.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是用于半导体製造的光刻设备。它是一种高度先进的、完全集成的抗蚀性涂层系统，既适用于清洁环境，也适用于传统的制造环境。该设备提供符合行业最高处理质量标准的集成、自动化和精确的防腐涂层。该机能够支撑单层或双层涂层几何形状，利用铁电、抗反射性或抗性涂层来改变涂层厚度并增强附着力。此过程能够对多位置阵列进行分层抗蚀剂处理。该工具提供了最大的灵活性和校准和配方控制,以加快工艺优化速度。它还提供了预校准选项以及快速均匀功能,以提高涂层精度。TEL Clean Track ACT 12的设计具有紧凑的占地面积和轻巧的框架,使机器能够安装到中等大小的清洁室或工作区中。该资产配备了自动控制模型和数字信号处理器（DSP），用于控制基于自动或手动调整的微调器。它还包括一个自旋速度控制模块，为更精确的涂层提供极好的自旋速度可重复性。该设备与高性能、用户友好的扫描和对准系统集成在一起，以提高微制造精度。设备的位置反馈能够快速对准,并有助于防止光刻胶操作过程中的错位。该机还包括一个惯性导航工具和电子传感器模块，以改进导航和稳定性。该资产能够在反向旋转涂层模式或真空涂层模式下运行。它由高速交流电动机提供动力，设计目的是将功耗降至最低。该车型配备了功能丰富的涂层设备，便于操作和维护。它也有从200毫米到500毫米的广泛选择基板。它还可以涂覆各种基材和材料，如硅、氧化硅、玻璃、金属。它配备了先进的监控系统，帮助实时监控流程变量。该单元还提供高级掩蔽和曝光工具，以确保无错误的平版印刷过程。机器的集成设计包括自动自我诊断，以确保有效的性能。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是一款最先进的光电抗蚀剂工具，旨在满足最苛刻的行业标准。它是一个工具，提供准确的，可重复的结果与各种各样的基材。通过先进的监控资产和高速集成设计，加速度计确保了导航和稳定性的提高。该模型的自动化特性和轻巧的设计使其非常适合清洁空间和常规制造环境。
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