二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9216090 待售
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ID: 9216090
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
Coater / (2) Developer system, 12"
Left to right
Main frame with controller
Carrier station type:
Foup cassette
Uni-cassette
(3) Cassettes
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system:
3 Liters (2) buffer tanks
Degassing system
Programmable side rinse:
PR Nozzles (1-6): (36) Bottles
(Bottle / Nozzle) Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H-Nozzle
DI Rinse: Stream nozzle
Developer system:
3 Liters (2) buffer tanks
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON Type (SFl3)
Adhesion unit
Sealing closed chamber
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(4) Precision Chilling Hot Plates (CHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer Edge Exposure Unit (WEE)
I-Line UV sensor
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
Developer chemical cabinet
SHINWA ESA-8 Series Temperature / Humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一款设计用于半导体微加工的先进光刻加工设备。该系统利用液体补充、浸入和非接触式扫描技术，为先进的半导体工艺提供精确的抗蚀性和无粒子效果。该单元包括一个扫描仪组件、多个分发器、循环洗衣机和一个生产率软件包。该扫描仪组件通过高分辨率的非接触式扫描提供了精确的抵抗剂量和均匀性控制。分配器提供机器所需的清洁解决方桉和抵抗.循环垫圈允许连续液体补充，去除颗粒和其他物质，这些物质可能会污染工具，从而产生抵抗残留物。最后，生产率软件为模型优化提供了实时资产性能反馈和性能验证。设备设计时考虑到维护环境低；靠近分配器、再循环洗衣机和扫描仪，可实现最小的维修和最佳的性能。该系统还能够以20微米分辨率进行高达456毫米的大面积处理，这对于先进的半导体工艺步骤至关重要。此外,由于过度使用解决方桉后的快速恢复过程,设备的停机时间最小化,从而为每个批次提供一致的结果。ACT 12光致抗蚀器是为了跟上先进的半导体加工而设计的.利用其非接触式扫描能力、液体补给和LED补给技术，该工具能够提供高精度抗蚀剂剂量的无粒子结果。该资产旨在为下一代微加工工艺提供最佳的基材/抗蚀剂性能。
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