二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9227624 待售
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ID: 9227624
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
(1) Coater / (2) Developer system, 12"
Left to right
(3) Main controllers
In-line
CSB
IFB
PRB 1
Power box
Chemical box 1
Fire system box 1 and 2
T&H Controller 1
Thermo controller 1
Loading configuration:
(3) FOUP Loaders
Uni-cassette
With system controller
Carrier station:
Type: FOUP
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coaler unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature controlled lines for etch unit
RDS Pump (Millipore)
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle (1, 2, 3, 4, 5,6)
(6) Bottles (1 Bottle / 1 Nozzle)
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Drain: Direct drain
Developer unit:
H Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
(2) Points for back side rinse
Developer system:
(3) Liters
(2) Tanks
Buffer tank system
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Drain: Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON SF130
Adhesion unit
Chamber (Build-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(5) Low temperature hot plates (LHP)
(4) Chill plates (CPL)
(2) Precision chilling hot plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer edge exposure (WEE)
UV Sensor: I-Line
Chemical cabinet:
Solvent
HMDS
DEV Chemical cabinet
SHINWA Series (ESA-8) Temperature and humidity controller
Temperature control unit (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种光刻设备，通过在晶圆表面创建薄膜图样用于光刻。该系统采用专用的清洁轨道，防止晶圆表面在暴露过程中受到污染，并且与其他常规系统相比，提高了工艺能力。该单元旨在实现更高分辨率的模式和更好的可重复性。它有一个真空机以及烘烤过程，积极工作，以干燥光刻胶和产生更好的图样精度。该工具配有专门用于晶圆预清洗的清洁轨道和用于暴露的主轨道。预清洗轨道采用氧化工艺，有助于净化晶片表面，改善光加工膜的质量。预清洁还消除了空气中尘埃颗粒或其他表面污染物造成的任何污染。主轨设计为提供稳定的低压电源，确保曝光过程的高功率稳定性。主轨道采用高精度光学设备，保证了曝光过程的准确性和稳定性。该模型具有各种可根据用户要求定制的编程操作周期。它还内置了有助于防止任何事故和设备损坏的安全功能。它有一个大的用户友好的显示屏，可以让用户轻松地访问设备的所有功能。该系统还有一个算法驱动的优化单元，允许用户优化曝光时间和工艺条件，以达到所需的模式精度和工艺产量。它还可确保曝光时薄膜的均匀性,并提供更好的加工能力。该机还可以与其他系统（如蚀刻、沉积和剥离设备）连接，以提高加工速度和更好的图样质量。总体而言，TEL Clean Track ACT 12是一种强大的光阻工具，能够实现高精度和可重复性。它具有许多为实现精确的模式结果而量身定制的特性，并确保了成品晶片的优越产量。该资产旨在提供可靠和高效的性能,使用户能够生产高质量的产品并减少浪费。
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