二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9239542 待售
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ID: 9239542
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
SOG System, 12"
Process block: Single block system
Hard Disk Drive (HDD)
CSB:
Equipment controller
Stage / Indexer: (4) Foup indexers
CRA / Cassette block robotics arm
PRB:
SOD Unit 2-1:
(2) Resist dispense nozzles
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Coat cup temperature synchronized control system
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Cup type: PP for upper cup & inner cup
SOD Unit 2-2:
(2) Resist dispense nozzles
Side rinse nozzle (Programmable side rinse EBR)
Coat cup temperature synchronized control system
Photoresist temperature control
Motor flange temperature control
Photo resist drain type: Direct gravity drain type
Cup type: PP for upper cup & inner cup
PRA / Process Block Robotics Arm
(6) LHP / Low Temperature Hot Plate Stations
(4) CPL / Chilling Plate Process Stations
TRS / TCP: Transition Stage Unit
CWH / Cup Washer Holder Unit
External chemical supply system:
Solvent supply system for (2) SOD units
Solvent chemical type
Canister tank to auto supply system with (2) PCS pump tanks
Tank type: (2) Pump tanks (3 Liters/Tank, Teflon) to cover (2) coat units
TEL OEM TCU / Temperature control unit:
SMC Circulator pumps and thermo controller
Power transformer AC cabinet: 208 VAC, 3-Phase, 50/60 Hz
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款先进的光阻工具设备，旨在在现代半导体制造妆容中达到生产和工程工艺应用的高性能标准。该系统具有硬件和软件组件的独特组合,所有这些组件共同提供高效、精确的光刻胶处理解决方桉。其核心是一个多室单元，其中包括一些最先进的组件，包括一个高性能的软件平台，旨在确保用户友好的操作。该平台确保了可靠的结果、直观的控制和快速的处理,有助于最大限度地提高效率。此外,机器本身还提供了许多特性和功能,可实现最大程度的多功能性和可定制性,以满足各种工艺需求。该工具的核心在于它的多腔室设计，即每个腔室支持一个独立的过程，从其他完全隔离。这使用户能够为每个操作自定义光刻胶处理的工艺参数和控制级别。再者，多介质加速器腔采用喷射泵的超精密控制，以确保光敏材料的一致、准确、精确的色散。该资产建立在一个智能集成各种用户功能的平台上，如模型级流程洞察，以方便提高光刻胶处理时间的准确性和速度。这确保了所有操作的高度可靠的过程。此外，该设备通过易于使用的数据采集功能和完全集成的统计分析包，设计为最大限度地提高流程吞吐量和生产率。最后,TEL Clean Track ACT 12是围绕一个坚固的安全系统构建的,该系统旨在显着降低材料输入不正确的风险,并最大限度地减少因污染造成的损失。这保证了整个设备中所有光刻胶加工的过程完整性和产品质量。总之，TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是一款功能强大的光致抗蚀剂工具机，为用户提供先进的硬件和软件组件，所有这些组件都设计为提供高性能、可靠、可靠的光致抗蚀剂加工工具。资产是围绕一个可定制的多室模型构建的，该模型具有用户友好的控制、快速处理吞吐量、直观的数据采集和统计分析工具，以及有助于减少污染风险的强大安全设备。所有这些属性协同工作，以确保所有光刻胶相关过程的最大精度和效率。
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