二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9242356 待售
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ID: 9242356
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (4) Developer system, 8"
Dual block system
Wafer flow: Left to right
Block 1:
C/S Block, 12"
Stage / Indexer:
Non-SMIF / Open uni-cassette
CSB / Cassette stage block
Block 2:
P/S Block, 12"
(2) Coat units: 2-1 & 2-2
E-Box
Cup base, 12"
(2) PANASONIC Motor drives
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) HCP
(4) LHP
TCP
(2) ADH / Adhesion
SHU
Block 3:
P/S Block, 12"
(4) Developer units: 3-1, 3-2, 3-3 & 3-4
E-Box
Cup base, 12"
Out cup, 12"
(4) YASKAWA Motor drives
(4) H Nozzles 1 & 2
PRA / Process block robotics arm
Pincette, 12"
(4) PHP
(4) LHP
(3) HCP
Block 4:
I/F Block, 12"
WEE Unit
CPL
IF Arm
Chemical supply cabinets: (2) Coater & (4) Developer
Power transformer AC cabinet
Temperature & humidity controller: SHINWA T&H ESA-8
TCU: (2) ACT 12 Frames
Missing parts:
Block 2 (P/S Block):
(2) Spin I/O boards
(2) Spin motors
(2) Out cups
(2) PR Nozzle assy
Air sol V/V
Oven:
(2) E5ZE
Z Motor
Lower drain sheet metal & hardware
Block 3 (P/S Block):
Developer:
(4) Spin I/O boards
(4) Spin motors
Oven:
PHP Flow meter assy box
E5ZE
REX Controller.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种将可靠光刻与自动化工艺系统相结合的高品质光刻设备。该系统旨在促进硅片生产中的大容量光刻。该单元包含离子束机、潜水冷却工具、曝光室和原位光学资产。离子束模型负责光致抗蚀剂的精确蚀刻。潜水冷却设备有助于降低系统中的热应力和污染水平。曝光室向要开发的光刻材料发出主动辐射。这种辐射可以从多种波长中选择。原位光学单元负责控制光强度。这一特性很重要，因为它可以让光刻机精确再现芯片设计。TEL Clean Track ACT 12功能的激活分阶段完成。首先输入所需的光学设置，然后将光刻胶暴露在辐射下。暴露过程完成后，离子束工具被致动；这有助于蚀刻光刻材料。最后,使潜水冷却设备能够降低热应力和污染水平.TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12还配备了警报和/或监控模型。这有助于检测过程中的任何故障,还可以提供维护数据。此功能可确保光刻设备高效运行,并防止对系统造成任何潜在损坏。Clean Track ACT 12是一种高效可靠的光刻设备。它能够产生高精度的图桉设计，并且可以很容易地与自动化的工艺系统相结合。这一特点在硅芯片的生产中尤其有益。离子束机、潜水冷却工具、曝光室和原位光学资产的结合，确保了光致抗蚀剂被精确蚀刻并暴露在所需波长下。警报和监控模型进一步提高了设备的效率和可靠性。
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