二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9244064 待售

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ID: 9244064
晶圆大小: 12"
优质的: 2008
Resist coater / Developer system, 12" Single block Track 1: Coater cup (2) Developer cups ADH Track 2: Resist reduction: RRC Developer: H Nozzle Resist pump: RDS 10 ml Oven configuration: PEB: (2) PHP COT: (2) PHP Post bake: (3) CHP Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款用于半导体製造过程的光刻胶开发设备。该系统旨在协助生产高度精确和优化的电子元件。它是一个复杂的技术解决方桉,允许创建具有可重复结果和提高统一性的模式。ACT 12通过对光照射到光敏抗性材料上而起作用。这一过程被称为光刻,用于在抗蚀剂材料上创建详细的图桉。一旦安装到位,就会开发出抗蚀剂材料,从而形成设备的模式。该装置采用了曝光激光和粒子提升技术的独特组合,以产生优异的效果。ACT 12有一个集群单元,由四个单独的系统组成,采用三种不同的光源选择:准分子激光器(266nm)、氟化rypt (248nm)和氟化氙(193nm)。它还配备了专用的控制机器,并配有用于数据管理的CPU,以确保每个光源都可用于实现最佳性能。该工具的Exposure Laser可实现卓越的打印分辨率,具有几何精度和均匀性。颗粒提升功能有助于确保抗蚀剂材料的翘角在显影前被剃光。这将促进更好的角分辨率和紧密模式的对齐。ACT 12是Clean Track系列的标准模型,能够以90秒的循环时间进行开发过程。它还提供更高的吞吐量,处理速度高达5.7厘米/秒。该资产采用超清洁不锈钢真空室建造,可无尘生产,并配有可移动、可调的舞台,可快速、方便地安装基板。综上所述,TEL Clean Track ACT 12是一个最先进的光刻胶开发模型,为准确性和可靠性而设计。它提供卓越的打印分辨率,具有快速的周期时间和高吞吐量。该设备能够产生高精度和均匀的图样,并具有可重复的效果,并采用超清洁不锈钢真空室来支撑无污垢生产。
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