二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9245699 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是专门为集成电路（IC）铸造市场而设计的光刻设备。该系统在单一平台中结合了掩模对准器和部分涂层技术，为IC制造中的光刻工艺提供了经济高效的解决方桉。掩模对准技术用于将光掩模精确对准晶片，确保光刻胶高度精确地暴露在半导体材料上。局部涂层技术允许选择性涂覆光刻胶,从而能够在侧面尺寸很小的IC特征上进行有效的图样化。TEL Clean Track ACT 12具有先进的基板处理单元,可提供最佳性能和可靠性。机器支持直径达300毫米的晶片，并能以每小时600晶片的速度曝光晶片。该工具还具有先进的温度控制曝光阶段,可确保精确和一致的曝光时间,无论环境照明或温度波动如何。除了暴露能力外，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12还具有创新的化学工艺，旨在减少颗粒污染，提高芯片产量。该资产利用一种专利的干蚀刻技术，将光刻胶蚀刻到IC制造过程所需的独特图样中。这种干蚀刻技术已被证明可以减少颗粒堆积，导致更高的芯片产量和更少的被拒绝的晶圆。Clean Track ACT 12还具有专有的自动粒子计数模型（APCS）。这一设备使操作员能够在操作过程中监控机器内部的颗粒计数，允许进行调整以减少颗粒污染并提高芯片产量。总体而言，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12为IC的制造提供了一个可靠和经济高效的解决方桉。该系统结合了先进的掩模对准技术和局部涂料技术，提供高精度的光致抗蚀剂曝光，同时还利用创新的化学工艺减少颗粒污染，提高芯片产量。先进的基板处理单元和自动粒子计数机进一步有助于确保结果的可靠性和质量。