二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9252495 待售

"TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12"是一种用于开发半导体基器件的光刻设备。该系统允许通过使用先进的曝光和曝光后过程对电路（如集成电路）进行精确的制图。TEL Clean Track ACT 12是根据光刻曝光法操作的自动化单元。这种方法包括使用一个洁净的房间以及各种工具和技术来精确地将复杂的图样蚀刻到硅片上。利用光学接近校正（OPC）和过程控制等竞争技术来确保精确的过程控制。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12允许使用高分辨率面板和激光直接成像（LDI）来製造微小的结构。本机配有热板、自旋涂层、液体分配器和TEL Zeus曝光模组。这些组件中的每一个，与光刻技术结合起来，都可以实现电路最精确、最精确的模式。自旋涂层用于将光刻胶均匀地分散到晶片上，而热板则用于加热光刻胶。真空辅助的液体分配器有助于分配均匀量的光致抗蚀剂，以确保一致性。TOKYO ELECTRON Zeus模块支持激光直接成像过程，允许一次曝光12个晶圆。真空辅助液体分配器是清洁轨道ACT 12的关键组成部分。此特性有助于实现光刻胶的高度均匀性、准确性和轮廓控制。这种元素组合确保了光致抗蚀剂没有碎片，从而在生产半导体组件时提供了更清洁的墙壁和更好的性能和产量。最后，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12为用户提供了控制过程的能力。它有一个内置的流程控制软件工具，允许用户监控流程并校准设置以产生精确的模式。这有助于降低缺陷率并优化过程控制,以实现更高效的光刻开发。总之，TEL Clean Track ACT 12是一种用于开发半导体基器件的高度先进的光致抗蚀剂资产。它使用了多种工具，结合了先进的曝光和曝光后过程，以减轻电路的最准确和精确的模式。