二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9259917 待售
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ID: 9259917
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
Resist coater / Developer system, 12"
Single block
Track 1:
PI Coater cup
(2) Developer cups
ADH
Track 2:
Resist reduction:
Developer: H Nozzle
Resist pump:
SHV 15 ml (Line 1)
RDS 10 ml (Line 2~6)
Oven configuration:
(2) PHP
(3) CPL
(4) Standard LHP
(2) High EXH LHP
Track chemicals:
Resist supply:
Gallon bottle
Coat bottle
Thinner: OK73
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种设计用于晶圆和掩模制造的光刻加工设备。该系统为工业光刻操作提供了卓越的性能、可靠的结果和紧凑的占地面积。该装置采用紫外线激光扫描仪，可直接成像光刻胶，图像质量和分辨率都很好。激光在光致抗蚀剂中产生精确的曝光模式，具有最小的抗灰残留或能量损失。先进的扫描仪设计还允许高速处理和易于操作。该机还具有自动化的过程控制功能,以确保可重复和稳定的结果。具备激光强度控制、温控和运动控制、抗图样、抗厚度控制和工艺跟踪功能。集成工具可以执行多个暴露过程,同时跟踪每个过程。除了提高性能外,TEL Clean Track ACT 12还改善了环境足迹。该资产采用优化设计,以减少用水和电力消耗,并改进维护,减少零件数量。它还具有更安静的操作。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是晶圆和掩模製造作业的理想选择，需要从大型生产到小型生产运行的精密控制和性能。该模型在很小的占地面积内提供了卓越的性能,使其成为工业光刻操作的经济高效的解决方桉。
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