二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9265669 待售

ID: 9265669
晶圆大小: 12"
优质的: 2006
Resist coater / Developer system, 12" Single block Track 1: (2) Coater cups (2) Developer cups ADH Track 2: Resist reduction: RRC Developer: SH Nozzle Resist pump: RDS 10 ml Oven configuration: (4) PHP (2) CHP (2) CWH (2) CPL Track chemicals: Resist supply: Gallon bottle Thinner: OK73 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种全自动的光致抗蚀剂设备,旨在提高大型电子装配中使用的掩模制作工艺的效率。它的高级设计采用了一系列有图桉的清洁技术,包括喷雾、开发和冲洗系统,以确保最高质量的清洁结果。该系统具有无与伦比的清洁性能,每小时可处理多达1,000个晶圆。TEL Clean Track ACT 12采用双臂设计,由活动清洁臂和固定臂组成,以优化清洁过程。这样可以确保将溶液均匀地分配到晶片的整个表面上,以获得均匀的结果。该装置配备了一个六喷嘴喷雾器,该喷雾器优化了图桉精度,覆盖了传统喷雾器面积的三倍。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12还设有一个包括增压室的综合开发模块,以确保一致和可重现的结果。该模块减少了溶液的蒸发和驱散,从而实现了精确可靠的开发和蚀刻过程。该机还利用冲洗技术,最大限度地减少交叉污染,提高性能。Clean Track ACT 12还提供了多种方便用户的选项,例如能够监控和调整清洁臂与晶圆之间的距离,以及能够控制清洁溶液的成分。该工具专为易于使用而设计,操作人员只需进行最少的培训,即可快速进行设置和配置。此外,该资产的设计目的是尽量减少维护需要,采用全尺寸风扇过滤器模型,确保清洁空气在整个腔室内流通,而无需经常清洗或更换。最后,TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12提供了一种可靠、自动化的光致抗蚀剂设备,设计用于高效的掩模制作工艺。它的高级设计结合了一系列全面的图样清洁技术和用户友好的选项,使操作员能够快速、准确地控制清洁过程。这样可以确保最高级别的性能,而最低的维护需求。
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