二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9269255 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种光刻系统，为优越的光刻精度和工艺性能而设计。光致抗蚀剂是一种化学工艺，用于生产集成电路元件和其他微电子器件。TEL Clean Track ACT 12是以化学材料为基础的两步系统，由三个主要成分组成：正抗光剂、预自旋抗光剂和负抗光剂。正光敏抗蚀剂用于接触蚀刻、栅极接触蚀刻、介电蚀刻、多晶硅掺杂等半导体制造工艺。这种抗蚀剂对紫外线有很高的灵敏度，在晶圆表面上产生运动轨迹图桉。预旋抗性在半导体制造中也起着重要作用。它稳定了薄膜结构，并启动了蒙版图桉的蚀刻。最后，负性光致抗蚀剂用于去除图样中不希望的部分，而不攻击所需的部分。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12由于具有精确控制抗蚀剂厚度、图样CD和抗蚀剂均匀性的能力，提供了卓越的光刻精度。这是通过其先进的胶片开发监控、高精度的背面反射工具以及其他集成的过程控制功能实现的。此外,系统还配备了自动进给组件,这对于生产几何形状和尺寸一致的元件至关重要。此外，Clean Track ACT 12具有高分辨率电梯机构，允许晶圆和基板之间有均匀的抵抗间隙。结果是优质晶片零件污染减少，产量提高，性能提高。
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