二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9276181 待售

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ID: 9276181
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
(2) Coat / (2) Developer system, 12" Direction: Left to right System power rating: AC, 208 V, 3 Phase Loading configuration: (3) FOUP Main system Coater unit (2-1, 2-2 Module): RDS Pump Resist supply: Gallon bottle DEV unit (2-3, 2-4 Module): Developing nozzle: SH ADH Unit: (2) CWH (2) CHP (4) PHP (2) CPL (2) TRS 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款由TEL开发的光致抗蚀剂设备,其设计旨在为半导体行业提供高水平的化学清洁度。系统由两个阶段组成;第一阶段是预涂层,专门设计用于预处理晶片表面,减少工艺杀手污染。这种预涂层之后是第二阶段,其中包括专门设计用来清除晶片表面任何有害污染物的化学清洁。TEL Clean Track ACT 12单元提供卓越的化学清洁度和卓越的图像质量,有助于确保尽可能高的产量。机器的操作方法是首先在晶片表面上使用预涂层,以清除任何污染物并确保清洁。这是通过在晶片上释放专门设计的流体溶液来完成的。当流体喷洒到晶片上时,它的作用是减少表面的颗粒和其他有害碎片。这样可以更有效地进行化学清洁。一旦应用了预涂层,就会启动刀具的第二阶段。这一阶段涉及一种旨在清除任何其他污染物和其他有害物质的化学清洁。为了开始这一过程,将一种高度浓缩的化学溷合物应用于晶圆表面。然后这种溷合物将暴露在紫外线下,以及一种有助于加热晶片表面的热板资产。这两个组分然后协同工作,有效清洁晶圆表面,进一步消除不需要的颗粒。最后,一旦晶片被清洗后,添加一个后涂层,以帮助抵抗任何进一步的外来污染物。这种后涂层提供了光滑的表面,有助于进一步保护晶片免受粒子和其他有害元素的伤害。结果是一个干净高效的表面,可以用于各种不同的产品和项目。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12模型在半导体行业以其卓越的化学清洁度和图像质量而备受推崇。它有助于消除手动清洗的需要,并提供优越的生产产量。它是半导体行业和要求最高清洁度和效率的客户的重要工具。
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