二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9278612 待售
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ID: 9278612
(4) Coater / (4) Developer system, 12"
Right to left
Carrier type: Notch
25-Slots
(3) Main controllers
(2) Processor blocks
(2) PRB's
(2) Thermo controllers
NIKON Stepper
H-Type nozzle
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
(4) ASYST RFID FOUP Systems
Normal cassette type
Coater unit (2-1, 2-2, 2-3, 2-4):
(4) Dispense nozzles with temperature control lines
RDS pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
(2) Rinse systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Programmable side rinse
Direct drain type
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4) NDP type:
NLD Nozzle
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
(2) Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degas system
Developer temperature control system
Direct drain type
(2) Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(12) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(2) Cup Washer Holders (CWH)
(13) High-Speed Cill Plates (HCP)
(6) High-Precision Hot Plates (PHP)
Transition Chill Plate (TCP)
(2) Transition Stages (TRS)
(2) Wafer Edge Exposures (WEE)
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
(2) Temperature Control Units (TCU)
MFC
Missing parts:
IRA Z-Axis driver
IRA Y-Axis driver
IRA TH-Axis driver
Temperature and humanity controller
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: AC 200/220 VAC, 3 Phase
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是由TEL（TOKYO ELECTRON）开发的光致抗蚀剂处理设备。它支持半导体器件制造中涉及的光刻工艺和后处理步骤。该系统结合了激光扫描仪、液体浸没装置和自动分配和对准装置，使其成为一种用途广泛的光刻加工工具。激光扫描仪用于利用超短激光脉冲宽度将硅晶片上的光致抗蚀层曝光。对激光脉冲进行了微调，以反射光刻胶层，从而获得精确的特征图样。液浸机利用加工室内分配的液体的自然浮力，确保均匀的光敏涂层。分配和对齐器允许根据需要精确应用额外的抗蚀层。TEL Clean Track ACT 12允许不同的曝光和抵抗处理参数,这些参数可以调整以改变所需的特征模式。它为蚀刻过程提供了高密度特征阵列或线宽控制的选择。这为用户提供了根据特定设计要求定制处理的多功能性。该工具内置了安全功能。激光扫描仪中的串联摄像机传感器确保晶片正确定位,并且不存在污染。此外，浸入式资产提供了一种有效的减少光刻胶污染的手段，使用户无需担心晶圆或加工室的污染。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12专为适应300毫米晶圆加工而设计,比其前代产品提供了更好的吞吐量。该模型使用低成本消耗品，能源使用效率极高，使用户能够降低生产成本，同时减少环境足迹。总体而言，Clean Track ACT 12是一种最先进的光敏处理设备，旨在满足现代半导体器件的需求。其激光扫描、液体浸入和对准技术使生产能够快速周转，而其内置的安全特性确保了最高水平的工艺控制得以维持。该系统的低成本和高能效设计使其成为任何半导体生产过程中一个有价值的经济高效工具。
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