二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9280162 待售
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ID: 9280162
Coater / (2) Developer system, 12"
CSB
PRB1
IFB
Chemical box
Thermo controller
(2) Fire system boxes
Left to right
Carrier type: FOUP
Loading configuration: 3 FOUP's
(3) Main controllers
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station:
Type: FOUP Cassette
(3) Cassettes
Unicassette system
Coater unit:
(6) Dispense nozzles with temperature controlled lines
RDS Pump
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath
Rinse system: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degassing system
Programmable side rinse:
(1-6) PR Nozzles
(6) Bottles (1 Bottle / 1 Nozzle)
CCSS Thinner supply
AMC Suck-back valve
Direct drain
I/F Wafer stage type: NIKON SF130
Chemical cabinet: Solvent, HMDS, DEV
Developer unit:
H-Nozzle
Stream nozzle for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
Adhesion units (ADH):
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
Local HMDS supply
(5) Low Temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill Plates (CPL)
(2) Precision Chilling Hot Plates (PHP)
(2) TRS
Transfer Chill Plate (TCP)
Wafer Edge Exposure (WEE):
UV Sensor: i-Line
SHINWA Series ESA-8 Temperature and humidity controller
Temperature Control Unit (TCU)
AC Power box
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一种最先进的光致抗蚀剂设备，旨在帮助用户在各种基板上产生干净、高分辨率的图样。光致抗蚀剂是一种对光敏感的材料，用于许多工业应用，如集成电路制造，在基板上创建电气连接和结构。ACT 12使用聚焦、照明和舞台控制系统的组合，在高达12微米的分辨率范围内产生模式。ACT 12系统的主要组成部分是高分辨率光学显微镜。它能够比传统光学显微镜更精确的成像，也提供了更大的视野。然后，一个特殊的照明单元为制图过程提供精确的照明，当与专用级控制器结合使用时，允许最多30个阶段的过程控制。这种组分组合允许在各种基板上精确阵列微型电路元件，分辨率高达12微米。除了光学显微镜和照明机外，ACT 12还拥有集成的光阻控制工具。该资产有助于精确调整光刻胶模型的各种参数，以获得最佳性能。ACT 12还包括一个耐腐蚀的不锈钢碗，非常适合在光刻胶施用工艺之前安装基板。ACT 12设备的另一个显着特点是能够在广泛的环境条件下运行。该系统具有耐腐蚀的结构，适用于潮湿或腐蚀性环境，以及极端温度。这在敏感或危险位置的基板上生产结构时特别有益。TEL Clean Track ACT 12是一种最先进的光阻装置,可精确控制各种基板上的微型电路元件阵列的参数。ACT 12以其光学显微镜、照明级和集成光阻控制机，在高达12微米的分辨率范围内产生干净、高分辨率的图样。此外,它坚固耐用,可以在各种危险环境中运行。
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