二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9282380 待售
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ID: 9282380
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
Coater / Developer system, 12"
Left to Right
FOUP carrier
(3) FOUP Loader uni-cassetes
(3) Main controllers
(2) Thermo controllers
(2) Fire system boxes
PRB
CSB
IFB
Main system:
Main frame with system controller
Carrier station
FOUP Cassette
(3) Cassettes
Uni-cassette system
Coater unit:
(6) Dispense nozzles
With temperature control line
MILLIPORE RDS Pump
Rinse nozzle: EBR / Back rinse / Solvent bath
Rinse system: (2) Buffer tank systems (3-Liters)
Degassing system
Programmable side rinse
PR Nozzle
(6) Bottles
Thinner supply: CCSS
AMC Suck-back valve
Direct drain
Developer unit:
H Nozzle:
Stream nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer systems: (2) Buffer tank systems (3 Liters)
Developer supply: CCSS
Degassing system
Developer temperature control system
Direct drain
NIKON SF130 Wafer stage
Adhesion units:
100% Sealing closed chamber (Built-in hot plate)
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply
(5) Low temperature Hot Plates (LHP)
(4) Chill Plates (CPL)
(2) Precision chilling Hot Plates (PHP)
TCP Unit
(2) TRS Units
Wafer Edge Exposure (WEE) unit
I-line UV Sensor
Chemical cabinet 1: HNDS and Solvent supply system
Chemical cabinet 2: DEV Solution and DIW supply system
SHINWA Series ESA-8 Humidity controller
Temperature Control Units (TCU)
AC Power box
2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一种光刻胶（PR）设备，旨在使半导体器件的生产速度更快、效率更高。它是一种高度先进的解决方桉，用于创建在硅片表面上传输电信号的复杂模式。该系统由几个不同的组成部分组成，其中一些设计是为了优化模式的准确性并保证很高的产量。第一个是TEL clean track ETCH单元。这台机器采用干蚀刻和化学蚀刻的组合，以确保晶圆是正确的图案。还有一个先进的光刻工具，用于精确设置公关资产。该模型还包括用于控制PR层速度和优化电子数据传输的交流磁铁设备。该系统还旨在减少或消除生产过程中的任何缺陷。TEL Clean Track ACT 12非常可靠，有几个内置的安全系统。其中之一是Clean-Track流程监控单元。这台机器确保每个过程步骤都受到监视,并且任何错误都可以得到纠正。该工具还具有用于实时表面监视的串联镜像资产,以确保正确应用PR层。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12的另一个重要特点是它能够根据正在生产的产品的需要快速改变PR层的参数。这样可以提供高度的灵活性和更快的生产时间。最后,该模型还能够自动检测生产过程中的任何缺陷。这样可以实现更全面、更快速的质量控制,并能够快速解决任何错误。总体而言，Clean Track ACT 12是一种高度先进和高效的光敏设备。它兼具创新特性和可靠性，是快速准确生产半导体器件的理想选择。
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