二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9373073 待售
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ID: 9373073
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
(2) Coater / (2) Developer system, 12"
Load port: (3) FOUPs
Main controller: Type 2
Coater 2-1 and 2-2:
R1-R4
(4) PR Nozzles
EBR
Resist pump type: RRC Pump
PR Filter type: Housing type
Developer 2-3 and 2-4:
Developing nozzle: Dual H nozzle
Top rinse: Single nozzle
Plates: (2) ADH, (7) LHP, (5) CPL, (4) PHP, (2) TRS, TCP
IFB: WEE, Buffer, CPL, THS
SHINWA ESA-8-T-01 Temperature and humidity controller
SMC INR-244 Temperature control unit
Chemical cabinet:
HDMS: Gallon bottle supply
Buffer tank: 3 L
Solvent: CSS With 3 L buffer tank
Developer: CSS with 3 L buffer tank
AC Power box: AC200/220 V, 157 A, 10 kA, 3 Phase
2002 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 12是一款光刻设备，设计用于在晶圆成像基板上提供精密光刻。它支持先进的晶圆处理技术,包括高通量蚀刻、高密度接触曝光和保形涂层应用。该系统将先进的粒子控制技术与强大的硬件和软件设计相结合，以获得最大的光刻产量。TEL Clean Track ACT 12单元包括一个12英寸真空卡盘和6个多区域温度控制，用于快速晶圆处理。这与用于晶圆冷却、处理和清洁的超高真空工艺相结合。这减少了污染物在晶圆的暴露区域和未暴露区域之间的转移，确保了工艺结果的一致性和干扰的最小化。机器的核心是提供精确成像和高宽高比曝光的CO2激光投影镜头。高精度对准工具可提供纳米级精度,提供高级光刻应用所需的可靠性和准确性。该资产最多可容纳50种晶圆尺寸变化,包括双面曝光,通过同时对晶圆两侧进行成像,使生产效率提高一倍。而且，模型的扩展聚焦范围允许0.4至40微米的小线路曝光，使用户能够降低中高密度应用电路的生产成本。用户友好的流程控制软件提供了简单的设置和简单的操作，允许在广泛的流程配方中轻松操作。设备与所有主要的抗蚀剂和开发者兼容，确保最佳光阻。综上所述，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12系统是一种可靠、精确的光阻装置，旨在提供精确的晶圆成像。其强大的硬件和软件设计,加上先进的激光成像和焦点控制,为高吞吐量、小线路成像和双面曝光过程提供了卓越的效果。
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