二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12 #9378136 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 12是一种光刻加工设备，满足了半导体行业对先进光刻工艺的需求。光敏胶片是一种光敏胶片,用于在集成电路（ICs）晶片上创建复杂的图样和特征。该系统包括精确定位晶片的高精度基板级和高效的力位移传感单元，以确保在暴露过程中精确抵抗厚度。该机器设计为在晶片上提供深、高对比度、低反射、大面积和高纵横比的特性，可用于各种应用。为实现其高性能,该工具利用了多种高级工具和功能。首先，它采用了高功率、基于激光的光学曝光资产，实现了亚微米精度。曝光模型还提供了低反射硬面膜技术和干蚀刻工艺，以实现光刻胶的高精度干蚀刻。此外，该设备采用高效的直接激光束曝光系统，大大降低了光刻胶的曝光成本，节能。此外，该装置的设计使各种操作能够在晶片在机器中时直接在原地进行，从而确保环境足迹最小化。例如,可以在不进行晶圆操作的情况下完成高级阵列化过程,例如侧壁阵列化、提升阵列化和铜焊阵列化。此外,该工具利用高分辨率成像资产来实现光学字符识别（OCR）、晶圆映射和缺陷分析。这样就可以实时在线监测抗蚀剂沉积和暴露过程，从而提高产量。此外，TEL Clean Track ACT 12具有高性能、多轴机器人处理解决方桉，帮助晶圆处理和处理操作，进一步提高晶圆产量。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 12是一款功能强大的工具，能够以卓越的分辨率在半导体行业中提升光刻性能。它还通过其节能的直接激光曝光模型提供了成本优势，从而确保以最高效和精确的方式完成过程。