二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 / ACT 12 #9138479 待售
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ID: 9138479
晶圆大小: 4"-12"
Coater / Developer system, 4"-12"
Either silicon wafer substrate or LED sapphire substrate
Windows GUI scheduler software
Up to date Indutrial PC controller
High speed SATA SSD storage system with RAID feature
Wafer level recipe processing and command
Real time process log
Online communication (SECS/GEM)
Group monitoring
Either uni-cassette (open cassette) or SMIF (3 SUCs or 4 SUCs) Integrated CSB
Wafer flow modification (Left to right or Right to left)
Step/Scanner interface modification
Integrated photo resist dispense monitoring system
Integrated chemical dispense monitoring system.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8/ACT 12是TEL（TOKYO ELECTRON）设计的光刻设备，用于高精度光刻工艺。该系统包括两个阶段：ACT 8阶段和ACT 12阶段。ACT 8级是一个完整的抗蚀剂处理单元，在曝光前将光致抗蚀剂应用于基板。它配有双洗涤器单元，在使用抗蚀剂之前清除基板上的任何污垢和污染。ACT 8还包括允许可编程配方控制的ASCII控制器，以及化学注入和化学温度控制。ACT 12阶段是一个临界维度计量和抗烘烤单元，用于测量曝光后基板上任何模式的临界维度。它还包括一个用于加热和冷却步骤的计时器和一个用于自动烘烤的加热呼吸盘。ACT 12配备了多种最先进的检测方法，以确保最大精度和可靠性。TEL Clean Track ACT 8/ACT 12机的两个阶段串联工作，产生优异的抗性加工效果。其先进的技术提供了行业层面的精度和可靠性，使其成为高精度光刻工作的理想选择。该工具配备了先进的安全功能，可在工作时针对各种环境条件提供卓越的防护。此外，TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8/ACT 12设计方便维护和维修，允许最大限度的上行时间和高效操作。总体而言，Clean Track ACT 8/ACT 12资产是一种先进可靠的光刻胶模型，适合最苛刻的光刻要求。它旨在提供卓越的准确性,同时最大程度地减少停机时间和污染风险。TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8/ACT 12具有可编程配方控制和自动烘烤等特点，是任何光刻应用的绝佳选择。
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