二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #162692 待售
网址复制成功!
ID: 162692
晶圆大小: 8"
Coat and Develop System, 8"
Double block
(1) IFB
4SUCs SMIF CSB
Currently installed.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是为半导体晶圆光刻等应用而设计的光刻设备。它是一种先进的设计,改进了传统的光刻胶和SOLIDLINE PRECISION工艺。ACT 8系统允许高分辨率光刻,减少工艺误差和污染。ACT 8单元的核心是其ECD(电子回旋加速器沉积)喷雾剂,其作用是提高光致抗蚀剂层的质量。这些制剂在溅射过程中使用,导致缺陷减少,污染可能性降至最低。这允许更大面积的光刻胶层被暴露,有助于确保均匀的厚度和均匀的表面拓扑。ACT8机器还改进了光致抗蚀剂的化学性质,使其具有更强的粘合强度和更好的涂层能力。它的低损失率和减少的校正需要有助于节省时间和金钱,当涉及到光刻。除ECD喷雾剂外,ACT 8还利用TEL专利的"支柱"技术,有助于更有效地捕获光敏材料,减少校正需要,确保与光敏层更好的均匀性。它还减少了过程中可能导致静电放电的粒子数量。ACT 8工具还提供了改进的缺陷捕获和更深的无缺陷区域。这有助于提高光刻过程中关键特征的质量,同时也减少了败类和缺陷相关产量损失的机会。最后,ACT8资产利用了专家软件套件,帮助分析和预测光刻胶层的行为,并在任何潜在的问题变得不可逆转之前进行检测。该软件还有助于减少编程时间,确保高效生产。TEL Clean Track ACT 8通过改进的光刻工艺以及改进的化学品和软件提供了处理晶片的有效和可靠的方法。这使得它成为任何需要复杂光刻工艺的半导体应用的理想选择。
还没有评论