二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293628555 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种用于高端光刻工艺的光刻设备。该系统具有垂直电阻头,可实现高度均匀的质量结果。这种高精度的装置提供了在整个抗蚀剂表面均匀的曝光。该装置在加工0.5 μ m结构时具有很高的可重复性,可用于要求苛刻的生产线。该装置具有一个掩模平面成像透镜,可减少1X到5X的光刻胶。透镜能够通过操纵透镜来观察和放大抗蚀剂的各个方面,从而提供达到预期效果的能力。该设备具有步骤和重复功能,允许它同时曝光多个图像、蒙版和胶片,以减少周期时间。该机还可以容纳4英寸到6英寸不等的基板,并且能够曝光5.6 μ米或更少。该工具内置了Arm控件,使用户能够操纵抗蚀层,并对与光刻相关的各种参数进行附件处理,如曝光剂量、焦点和快门速度。这一特性使得该设备成为高精度晶片应用和生产的理想选择。TEL ACT 8的设计使得用户能够监测、自动化和控制光刻过程的各个方面,从曝光到聚焦设置。设备具有内置诊断程序,可提供有关流程性能和设置的信息。该设备还具有温度控制设置,可增强对光刻工艺的精确控制。该资产采用高精度数字伺服电动机,与传统的模拟伺服电动机相比,具有更高的精度。该单元还包括高可重复对准设置,以精确定位和对准口罩和胶片。所有这些特性确保TOKYO ELECTRON ACT 8是实现高端光刻工艺的理想工具。该器件可方便进行亚四分之一微米分辨率投影光刻等工艺,这是半导体行业使用最先进的工艺之一。因此,该装置适用于任何需要精确过程控制设置和准确结果的光刻处理应用。
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