二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293767233 待售
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TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一种设计用于先进半导体制造工艺的高性能光致抗蚀剂设备。光致抗蚀剂系统配置为控制晶片上光致抗蚀剂薄膜的曝光模式。这种类型的工艺是必要的，以实现现代、精密芯片所需的极其精确的图桉和特定几何形状。TEL ACT 8系统由Dispense单元、CD测量机和Laser Direct Writer三个主要组成部分组成。Dispense Tool能够将光刻胶薄膜材料精确地传递到基材上。CD测量资产设计用于测量光刻胶片上电路图样的临界尺寸，以获得精度和精确度。最后，Laser Direct Writer将一个高度精确的激光束输出到光刻机上，从而清晰地描绘出目标电路模式。TOKYO ELECTRON ACT 8模型具有提高性能的技术，包括一个便于快速自动化图像处理的扫描电子显微镜成像设备和一个用于3维光刻胶图样保形书写的大功率谐波脉冲发生器。该机还具有优化的梁轮廓稳定器和下一代接近效应校正模块。这些特性保证了高精度的光刻胶图样，并通过精确的图样补偿来保持无边距的完整性。该系统进一步能够测量光敏胶片的曝光剂量，以提供关于曝光过程的反馈。TOKYO ELECTRON ACT 8单元采用先进的控制和监控算法编程，旨在提供对曝光过程的全面控制。它具有内置的数据库管理功能,允许用户在整个曝光过程中实时记录参数和结果。机器通过局域网连接主机计算机，提供与其他设备和人员的通信。ACT 8精确、精确地提供薄膜曝光模式，从而使光敏抗蚀剂层在制造过程中产生高产率。它结合了高度可靠的薄膜传送、精确的模式识别和控制,以及高效的图像分析以及先进的控制和数据库功能,使其成为现代半导体产品制造必不可少的工具。
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