二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #293824844 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293824844
晶圆大小: 8"
优质的: 2008
Coater / Developer system, 8"
Interface block
Cassette wafers
Controller
Robot
Filter
2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track Act 8是一种光刻设备，用于制造半导体器件。光致抗蚀剂是一种聚合物，应用于硅等基板上，对光敏感，允许在光刻过程中在基板上形成图像。TEL Clean Track Act 8由一个微调组成，这是一种机器，用于以受控、均匀的方式将聚合物抗蚀剂旋转到基板上。旋转器允许均匀涂层，并有助于确保光致抗蚀剂层的厚度正确。TOKYO ELECTRON CLEAN Track Act 8还包括一个光掩模对准器，这是一个机器，用来投射有图样的图像到覆盖有光刻胶的基板上。光掩模对准器由两个截然不同的光学系统组成。第一个系统包括光源、照射光掩模的电子束和将输出图像投射到基板上的变换透镜单元。第二台光学机器由光学探测器和可移动镜组成。探测器收集从基板反射出来的照明，镜子移动图像使其与光掩模精确对齐。清洁轨道法8的下一个组成部分是曝光站。这是光致抗蚀剂在用户确定的时刻暴露于光的地方。曝光站包括用于设定聚合物膜的曝光时间、波长和光剂量的控制。光致抗蚀剂暴露在光下后，使用显影剂从基板上去除未暴露的聚合物膜区域。显影剂被放入罐中搅拌生成均匀的溷合物，可以溶解光刻胶未暴露的区域。然后将开发出的光致抗蚀剂在DI水中冲洗后处理，以确保其均匀性。最后，TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track Act 8还附有一个清洁站，能够在光刻步骤之间湿洗基板。这样做是为了清除可能附着在基板上的任何灰尘和其他颗粒。润湿溶液被分配到容器中，然后搅拌产生均匀的润湿，有助于清除残留的污染物。总体而言，TEL Clean Track Act 8是一种先进的光刻工具，用于制造半导体器件。其组件包括一个微调器、光掩模对准器、曝光站、显影器和清洁站。它使用户能够通过光刻技术在半导体晶片上精确创建复杂的图样，大大提高产量，减少制造设备所需的时间。
还没有评论