二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9057502 待售
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ID: 9057502
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Single block system, 8"
(3) Blocks interface: Cassette-process-side cabinet interface
(2) Transfer robot arms: Cassette and process
(2) SOG Coaters
(2) SOG nozzles with temperature control
TARC compatible: Teflon coated chamber
(4) Chill plate process stations with temperature control
Transfer chill plate
(4) Low temperature hot plate process stations with temperature control
(4) High temperature hot plate process stations with temperature control
Sub-components:
Fluid temperature controller
Temperature and humidity controller
Side chemical cabinet
AC Power box
SECS/GEM compatible
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一种光刻设备，设计用于半导体器件制造中的精密蚀刻、涂层和粘附。主要用于电路板组装和晶圆加工领域。系统使用一种特殊形式的光刻胶（PR）材料，应用于晶圆表面，并允许光源蚀刻材料的特定部分。使用真空涂层设备将PR材料应用于表面,该设备将PR材料均匀地分布在表面。组件一旦被PR材料包围，光源就被激活，它会根据指定的设计数据选择性地蚀刻材料。通过调整光照强度、曝光时间和光源角度，可以达到组件所需的图桉。该装置的设计是为了精确定位公关材料，这对于制造准确和精确的部件至关重要。实现本机具有高分辨率级刀具和空气轴承级资产，精度为3微米。空气轴承级模型可用于在蚀刻前准确定位元件。除蚀刻外，该设备还能够涂覆单一应用的产品内外角。这进一步促进了准确和精细设计的产生。为确保均匀性,系统配备了对齐和均匀性检查功能,可以检测偏离均匀性的情况,从而能够及时进行调整。此外，该装置还能够进行金属沉积、活化、粘合剂硬化等粘附过程。机器施加了非常强的真空，以确保粘合剂的应用是一致的，并且硬化过程是精确的。总体而言，TEL Clean Track ACT 8是一种精确且用途广泛的光致抗蚀剂工具，非常适合制造半导体器件。该资产具有必要的功能,以确保高质量的产品与目标设计几乎没有偏差。
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