二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9165438 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一种用于制造集成电路的光敏设备。该系统由一个专门的多色激光源、一个光学掩模和一个分层的光刻膜堆栈组成。激光源提供了高度精确和局部化的径向能量通量，使光致抗蚀剂能够通过光学掩模曝光。单元中使用的光敏堆栈至少由四层组成。第一层是掩蔽层，作为保护底层免受激光束照射的物理屏障。第二层是感光层，由具有感光特性的光刻胶或化学物质组成。这一层经过专门设计，只允许在暴露于光线下才发生蚀刻。第三层是显影剂，有助于去除感光层中不需要的部分。最后一层是钝化层，它可以防止任何不需要的照相区域曝光。TEL Clean Track ACT 8的主要优势在于其高分辨率和可重复成像能力，这是由于来自超细运动激光源的聚焦能量通量所致。激光光源的光斑尺寸为100-400纳米，可实现高精度成像，提高制造精度。此外，光致抗蚀剂层采用增强的分辨率和通过控制来配制，消除了传统光致抗蚀剂工艺所观察到的固有扭曲照片。该机的多层处理特性进一步提高了效率。这使得它可以在一次曝光的情况下连续执行多个步骤的蚀刻过程；光致抗蚀剂层被设计为足够厚，使其能够适当程度的光照。多层还使工具能够同时去除遮罩层和感光层的不需要的部分。光致抗蚀剂层与聚焦激光束的高度集成还能实现光烧蚀，这一过程使电路在结构上与底层基板集成。这一工艺使得基材可以通过高度的控制进行预抛光，消除了蚀刻后进一步抛光的需要。总体而言，TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8光抗蚀剂资产提供了一种极为精确和高效的方式来制造具有紧密公差的集成电路，从而实现了高精度电路的设计和制造。光致抗蚀层采用适当的分辨率平衡并通过控制来配制，激光通量允许单次曝光进行全步处理。此外，光烧蚀使工艺更有效率和成本效益，同时提供高精度。