二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9190707 待售
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ID: 9190707
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Resist coater / Developer, 8"
Multi block
Wafer type: Notch
In-line with stepper type: NIKON B12
Wafer flow direction: Right to left
Spinner unit configuration: 2C
Function of coater heads: (4) Nozzles / Coater
With individual pump per nozzle / Prewet nozzle
Main body frames: (3) Blocks
Indexer
Coater / Developer
Interface
SMIF: (3) Indexers
Robot arm: Ceramic / Aluminium
LHP: 250 deg (+/- 2deg)
PCHP: 150 deg (+/- 2deg)
CPL: 22 deg (+/- 2deg)
Cooling plate temperature control system: PID Controller
Spin developer head: 4D
Functions for developer coater heads:
(2) Developer lines with H Nozzle / DIW Center rinsing
Developer dispense: N2 Pressure
DIW Rinse with flow meter:
Top-side
Back-side
Programmable exhaust damper (Screen std)
Filter for developer and DIW (Pall DFA1FTS 64M, 0.1um):
CHUV2LOP1
UPE Filter: 100 nm
Developer temperature control system: ETU Controller
Chemical cabinet
Drain pans
With leak sensors (Main body and DD cabinets)
Double containment for chemical lines: DD Cabinet to main body (EBR / Cup rinse)
TEL Tower lamp
Power requirements: 220 V, 3 Phase, 4 Wire, 50-60 Hz
2000 vintage.
TEL （TOKYO ELECTRON） TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8是一款先进的光刻设备，专为精确、高精度、纳米图桉而设计，性能优于传统光刻技术。光刻胶系统提供了流线型的设计和操作平台，确保了最短时间内最一致的结果。该单元的工作原理是，首先将基材暴露在光线下（使用曝光机），然后在基材上施加光刻胶。光致抗蚀剂起到掩蔽层的作用，在需要图样的区域阻挡一些光线到达基材。图样是通过控制光源的曝光时间、强度和角度，以及光致抗蚀剂的组成来实现的。TEL Clean Track ACT 8设计了一套坚固的操作功能,包括一个自动对焦工具以确保每次都有精确的光刻要求,一个带气动门的封闭式腔室,可编程的调节和许多其他功能。此资产的高级功能允许在从微米到亚微米范围的一系列层/层中进行阵列化,可实现10 nm的最小特征大小。该模型非常适合芯片制造、瞄准半导体器件、微机电系统（MEM）、显示技术等。光刻设备有两个主要优点。首先是降低成本，因为只需要使用一个光刻系统，而不是多个光刻模块。第二种是改进的吞吐量,因为可以快速绘制阵列,而不会受到操作员的任何手动干扰。除此之外，该单元还可以针对特定的应用需求进行优化，以便在更短的时间内产生更精确的结果。可调整特征的例子包括光致抗蚀剂的化学成分、基材的层厚度和图样收缩系数。TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8光抗蚀器机为纳米级电子器件的数据驱动开发和阵列设计提供了理想的平台。该工具缩短了周转时间,提高了结果,既提高了成本效率,又改进了技术流程。它是客户寻找可靠、经济高效的平台开发先进、高科技应用的完美解决方桉。
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