二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198616 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是利用无掩模曝光系统产生高品质光刻图桉的光刻设备。它使用激光的多核光束照射晶圆表面上的正向或负向光致抗蚀层。激光由液晶百叶窗调制，使图样化的光电子能精确形成所需的图样。该单元还包括一个石英基板级，无需用户干预即可自动移动，以调整图样制作过程中的曝光区域。激光源功耗低，无臭氧。该机设计为产生高分辨率的图样，精确对准和处理各种光刻胶。它支持清洁室内操作，低颗粒污染和最小静电发电。该工具高效、经济高效,不需要昂贵的口罩制作,并减少了冗长的蚀刻和干洗工艺步骤。该资产还允许光刻胶从负向正向曝光以创建多层图样，而无需额外的处理步骤。对于每一种光刻胶，模型还被设计为优化工艺条件和工艺设置，可以根据各种工艺要求进行调整。该设备最多可在内存中存储8种配方，并可根据工艺设置调整曝光时间和激光功率。此外，系统还包括一个实时监视器，让用户可以轻松适应不断变化的环境条件，跟踪曝光模式的进展。这种光敏装置提供出色的分辨率，对准，和精确图案的光敏。低功耗和无臭氧激光源使其适合洁净室应用，而其成本效益和节省时间的特点使其成为研究人员和制造商的宝贵工具。此外，机器的内置显示器和配方存储使其成为制造光刻照相口罩的极其高效和可靠的解决方桉。