二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198617 待售

TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一种光致抗蚀剂设备，设计用于需要提高精度、分辨率和清洁度的沉积过程。它的设计采用了光刻工艺的先进特性和技术，并针对涉及高温和/或高抗性物理的工艺进行了优化。它能够以最小的物理接触来提高沉积特性的可控性和准确性。TEL Clean Track ACT 8使用先进的光阻技术，在特定循环的过程中实现精确的原子层沉积。这项技术以最小的物理接触提供了对特征的精确控制，从而能够高效的光刻工艺生产。该系统包括等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）、多级灰化（MSA）和LPCVD（低压化学气相沉积）技术，以实现精确的原子层沉积。该单元还包括用于需要高温的光刻工艺的高抗性物理技术。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8设计有独特的腔室结构和集成的机器人手臂，以最小的物理接触确保最佳效果。这项技术还能提供比传统光刻工艺更高分辨率的精确蒙版。集成机器人臂的设计是为了提高沉积过程的灵活性和精确控制。Clean Track ACT 8能够处理多种基材，包括常见的不锈钢、铝和石英材料。该机还能够在低温下涂覆和挥发薄膜和厚膜。此外,该工具能够在批处理和连续过程中运行。TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8产生高质量的沉积结果，废物最少，物理接触最少。凭借其先进的特性和技术，能够生产出比传统光刻工艺分辨率更高的精密口罩。它是需要提高精度、分辨率和清洁度的沉积过程的理想资产。