二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198617 待售

TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8
ID: 9198617
晶圆大小: 8"
(3) Coater / (4) Developer system, 8" Left to right wafer flow (4) UNCs DUV Open cassette Interface for CANON ES3 Dual block.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一种光致抗蚀剂设备,设计用于需要提高精度、分辨率和清洁度的沉积过程。它的设计采用了光刻工艺的先进特性和技术,并针对涉及高温和/或高抗性物理的工艺进行了优化。它能够以最小的物理接触来提高沉积特性的可控性和准确性。TEL Clean Track ACT 8使用先进的光阻技术,在特定循环的过程中实现精确的原子层沉积。这项技术以最小的物理接触提供了对特征的精确控制,从而能够高效的光刻工艺生产。该系统包括等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)、多级灰化(MSA)和LPCVD(低压化学气相沉积)技术,以实现精确的原子层沉积。该单元还包括用于需要高温的光刻工艺的高抗性物理技术。TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8设计有独特的腔室结构和集成的机器人手臂,以最小的物理接触确保最佳效果。这项技术还能提供比传统光刻工艺更高分辨率的精确蒙版。集成机器人臂的设计是为了提高沉积过程的灵活性和精确控制。Clean Track ACT 8能够处理多种基材,包括常见的不锈钢、铝和石英材料。该机还能够在低温下涂覆和挥发薄膜和厚膜。此外,该工具能够在批处理和连续过程中运行。TEL/TOKYO ELECTRON CLEAN Track ACT 8产生高质量的沉积结果,废物最少,物理接触最少。凭借其先进的特性和技术,能够生产出比传统光刻工艺分辨率更高的精密口罩。它是需要提高精度、分辨率和清洁度的沉积过程的理想资产。
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