二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9198618 待售
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ID: 9198618
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
IFB
DUV
Single block
Right to left wafer flow
(4) UNCs
Open cassette
Interface for ASML PAS 5500.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一款使用先进技术为高端微电子器件生产提供广泛效益的高精度光刻设备。该系统提供了更好的过程控制和准确性,从而提高了生产率和质量。它通常用于生产薄膜晶体管和集成电路。TEL Clean Track ACT 8单元包括两个关键组成部分:一个获得专利的电子束曝光源和一个专有软件控制的精确多轴曝光机。电子束曝光源使用电子枪产生高分辨率的蒙版成像图样,转移到光敏材料上。专利曝光源设计为通过最大限度地减少由于成像介质造成的曝光能量损失,将图像精确转移到光刻材料上。这样可以提高图像分辨率和精确的图像配准。机器的第二个组件是专有的软件控制的精确多轴曝光机制,它负责以极精确的精确精确地传送掩模到图像的模式。该组件配有钛制拖车,可在三个轴上进行线性运动控制,精度小于0.5微米。这样就能够以严格的精度进行照片对齐,从而产生具有出色配准的高分辨率图像。此外,TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8工具可以安装晶圆预烤模块、温度补偿资产、高精度快门模型等多种不同的附加功能。这样可以定制设备以满足特定的生产要求。Clean Track ACT 8光抗蚀剂系统采用尖端技术,在微电子器件的生产中提供极高的精度和速度。这个单元可以在薄膜晶体管和集成电路的生产中实现更快的生产时间、更高质量的图像以及更高的生产率。它是制造精密精细微电子器件的理想机器。
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