二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9219615 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是一款为集成电路制造而设计的"深紫外线"光刻设备。光致抗蚀剂是一种光敏材料，用于半导体制造过程中，在各层上创建特征。TEL ACT 8系统的设计与市面上的其他光刻胶相比，能提供非常高的灵敏度和分辨率。TOKYO ELECTRON ACT 8单元由两个独立的组分组成：负光抗蚀剂和酸扩散屏风。使用喷雾或自旋涂层技术将负性光刻胶涂在基板上。当暴露在强度足够的紫外线下，会聚合，变得不溶性和不吸收性。这允许创建细线和其他结构。在光致抗蚀剂之后应用的酸扩散筛网用于控制形成特征的大小。它与光刻胶的选定成分发生反应，形成一层微观气泡，充当蚀刻面膜。这层比周围的光刻胶具有更高的蚀刻速率，允许形成较小的特徵。光致抗蚀剂和酸扩散筛选的硬化确保了其特性稳定且不受污染。这些特性随后可以用于后续的光刻，允许进一步的电路形成。ACT 8机器在暴露速度、灵敏度和分辨率方面提供了优势。由于其灵敏度高，可以使用较短的曝光时间，这转化为更高的生产吞吐量。它还具有生产低至0.2微米分辨率和低至0.1微米空间的生产线的能力，使其适合最新的IC制造工艺。TEL ACT 8工具是寻求高可靠性和高分辨率光刻胶解决方桉以满足集成电路制造需求的用户的绝佳选择。其快速的曝光速度、灵敏度和准确性意味着它将承受最苛刻的生产条件。