二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9237166 待售
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ID: 9237166
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
(2) Coater / (3) Developer system, 8"
R-Type
Inline type
Hard Disk Drive (HDD)
(4) Loaders
(2) Blocks
(2) Adhesion (ADH) process stations
(12) Low temperature Hot Plate (LHP) stations
(2) High temperature Hot Plate (HHP) Process stations
(8) Chilling Plate (CPL) Process stations
(4) Chilling Hot Plate (CHP) Process stations
(2) Shuttle (SHU) Modules
(2) Cup Washer Holder (CWH) Units
(4) Transition Stage Units (TRS)
Coat process station (COT):
(3) Nozzles
RRC Pump
Solvent automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
Side rinse (EBR)
(2) Back Side Rinses (BSR)
Develop process station (DEV):
Single nozzle
H Nozzle
Solution automatic supply: 3L (2) Buffer tanks
(2) Rinse nozzles
(2) Back side rinses
IFB
EIS Type: ASML
WEE
AC Power box
Chemical box
Temperature controller
T&H: KOMATSU 1821
MFC
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是由集成电路（IC）制造设备的领先制造商TEL开发的光阻设备。TEL Clean Track ACT 8具有四点接触系统和高性能、低角度清洗程序。为了保持光刻制品的最高标准，TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8有助于保持干净的基板表面，同时保证稳定可靠的抗生长能力。Clean Track ACT 8单元设计用于改进微处理器和其他IC传感器的光刻层,提供高精度、高分辨率的阵列。为此，该机器使用两个主要组件：光学步进器和紫外线光源。光学步进器由两个反射镜和透镜组成，这些反射镜和透镜为光致抗蚀剂沉积在基板上创造了所需的图样。紫外线光源提供基板的均匀照明。该工具提供了一种低角度清洗程序，可确保表面污染物不会干扰光刻层。即使在形成图桉层的最关键阶段，它也能清洁表面。TEL/TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8的低角度清洗程序有助于去除颗粒、吸附剂和其他可能造成缺陷的材料。TEL Clean Track ACT 8的四点接触资产将基板对准光学步进器的精密插槽。该模型使用精确对准设备将基板精确对准移动的光学元件，以便对光刻胶薄膜进行精确的制图。这样可以确保薄膜均匀和径向地涂在基板上。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8的过程监视和控制系统持续监控各级操作和参数，从而保证了一致和可重复的抗厚度。这有助于确保提高产量和无缺陷的制造结果。CleanTrackACT 8是一种有效的光敏沉积方法.它有助于保持底物的清洁度，并确保稳定和可靠的抵抗生长，同时提供高分辨率的模式与最小的缺陷。
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