二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9241869 待售
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已售出
ID: 9241869
晶圆大小: 8"
(2) Coater / (2) Developer system, 8"
I-Line
Single block system
Wafer flow: Left to right
Process block: Single block system
Block 1(C/S Blk):
CS Add on board missing
Main controller: ACT #2
Y,Z,Th Motor, X,Y,Z,Th Drive
Touch screen
Pincette
Block 2(P/S Blk)
(2) Spinner I/O boards missing
(2) Coater units (2-1, 2-2)
Direct drain type
(2) PR Nozzle assemblies
(4) Back rinses
(2) EBR Nozzles
(2) Out cup assemblies
(2) Nozzle changer motors
(2) Spin motors & drivers
(2) Developer units: (2-3, 2-4)
(2) Spinner I/O boards missing
(4) Back rinses
(2) H Nozzle assemblies
(2) Out cup assemblies
(2) Spin motors & drivers
Oven unit:
(7) LHP/ Low temperature hot plates
(4) CPL/ Chill plates
TCP
(2) TRS / Transfer stations
(2) ADH/ Adhesion process stations
PRA / Process block robotics arm:
Missing part: Pincette
TH Drive
PRA Motor
Missing parts:
(4) ADH Inject valves
(10) Air valve (AMDZ1-X61)
(2) DEV Drine bottles
Power cable
THC: T&H-NRE-2-A-00
Power box: PB2-U200-03-DV2
TCU.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由TEL Ltd制造的光刻设备。（TOKYO ELECTRON）.它设计用于半导体和其他相关行业，用于蚀刻或涂覆直径不超过8英寸的晶片。它利用激光直接成像系统向光刻涂层晶片传送精确的图像。该单元由三个基本组件组成：扫描头、控制卡和主动室。扫描头使用来自两组激光器的激光来执行光刻涂层晶片的成像。控制卡使扫描头能够产生具有适当间距和分辨率的光束。它还包含实时检测光束位置的数字电路板和接收器，从而在需要时调整分辨率。活性室便于从机器上装载和卸载晶片以及激活光致抗蚀剂。该工具利用了一种称为双状态抗蚀剂（DSR）特征的新型光抗蚀剂资产。此功能使用户可以在调整两个应用程序之间的特征宽度的同时,将两种不同类型的光刻胶应用于同一晶片。TEL ACT 8利用先进的高光功率调谐、激光波长柔韧性、多级中心手性和磁场调谐等多种先进技术，为光刻涂层晶片提供精确可靠的成像。此外，光致抗蚀剂具有较高的灵敏度和良好的阻抗控制，即使在激光束强度变化的情况下也能提供准确的结果。模型还具有广泛的自动控制设备,使用户可以通过图形用户界面通过单击按钮提交已检查的参数集。然后,该系统将所有相关设备连接起来,并以完全准确的方式指示过程参数。该单元的另一个重要方面是其安全高效的SEH操作软件。此软件可通过PC访问,因此用户可以与机器或其他连接的设备进行通信,保存数据以进行刀具召回,并远程操作资产。SEH操作软件还使用户能够实时监视模型内发生的所有活动。最后，TOKYO ELECTRON ACT 8提供了一个人性化的环境和自动维护功能，允许其用户在人工和能源方面提高生产率和降低成本。
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