二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9281143 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
已售出
ID: 9281143
System, 8"
Main controller
Process type: DUV, Arf, Krf
Cassette block: 4-Stage
Process block: Dual block
Interface block: WEE
SHU
IRA
Spinner units:
Unit / Nozzle quantity / Pump / Nozzle type
2-1 COT / (3) / RRC
2-2 COT / (3) / RRC
3-1 DEV / (1) / H Nozzle
3-2 DEV / (1) / H Nozzle
3-3 DEV / (1) / H Nozzle
Bake units:
(8) CPL
(4) CHP
(12) LHP
(2) ADH
(4) TRS
(2) HHP
Chemical supply:
Thinner chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Dev solution supply: CCSS, (2) Buffer tanks
HMDS Chemical supply: CCSS, (2) Buffer tanks
Coat drain type: Direct drain type
Dev drain type: Direct drain type
Sub-module:
TEL AC Power box
Cup temperature / Humidity
TEL Chemical cabinet
(2) SMC Temperature Control Units (TCU)
Missing parts:
Temperature / Humidity
Oven cover
IRA Theta driver
IRA Z Driver
IRA Z Motor
1999 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是以日本为基地的主要电子製造商TEL（TOKYO ELECTRON Limited）製造的光刻胶设备。该系统设计用于半导体制造设施，用于制造尺寸小于10nm的晶圆产品。这个单元是一个"单曝光"的光刻机，意味着它以单一剂量的紫外线（UV）曝光晶片，或称"闪光灯"，使其成为处理较小规模设备的理想选择。TEL ACT 8工具结合了高度稳定的光源、步进式晶片级以及相关的光学和光学系统，以紫外线精确地曝光晶片。资产的主机允许管理暴露的阵列处理。利用TOKYO ELECTRON ACT 8模型，可以使用多层的光刻胶在晶圆上创建所需的电路设计。光致抗蚀剂用作创建最终设备的蚀刻掩码,从而阻止晶片的某些部分暴露于蚀刻过程中。设备在曝光前自动分配和烘烤光刻胶，允许快速处理。完成所需的阵列处理后,晶圆即可用于蚀刻过程。该系统通常使用单舱口蚀刻，其中蚀刻气体用于被蚀刻层中的反应性分子，并在下面的硅中形成图样。TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8单元也允许多舱口蚀刻，其中使用多层光刻胶以产生更小的特徵和更细腻的设计。该机可靠性高，光源和光学器件寿命长。此外，该工具使用激光和软件，以确保一个高度精确，甚至光刻曝光。ACT 8资产的并行处理能力使其能够快速处理多层复杂的光刻胶图样，以确保比以往想象的更好的高质量集成电路。总而言之，TOKYO ELECTRON ACT 8光刻胶模型是一种高度精确的单曝光光刻胶设备，设计用于快速制造先进集成电路。该系统可靠的光源和光学设备,以及单舱口和多舱口蚀刻功能,使其成为半导体制造设施的理想选择。
还没有评论